[发明专利]一种萃盘不间断供料机构

权利要求书

1.一种萃盘不间断供料机构，包括安装底座(1)，其特征在于：所述安装底座(1)的顶部分别设有萃盘上料托盘(2)和空萃盘下料托盘(3)，所述萃盘上料托盘(2)的顶部与萃盘上料升降模组(4)对应，所述空萃盘下料托盘(3)的上方与空萃盘下料模组(9)相对应，所述萃盘上料升降模组(4)和空萃盘下料模组(9)的结构相同，且两者的一侧均安装有两组萃盘托起机构(5)，两组所述萃盘托起机构(5)之间设有萃盘到位平面检测机构(6)，所述安装底座(1)的顶部通过安装支架与空萃盘移载模组(7)连接，且空萃盘移载模组(7)由安装在其一侧的步进电机(8)驱动；所述安装底座(1)上设置有与萃盘上料托盘(2)和空萃盘下料托盘(3)相适配的滑动导轨，且萃盘上料托盘(2)和空萃盘下料托盘(3)通过滑动导轨与安装底座(1)滑动连接；所述空萃盘移载模组(7)包括安装座(71)，所述安装座(71)沿其轴向分布从动轮(74)和主动轮(72)，所述从动轮(74)和主动轮(72)之间通过传送带(73)连接，所述主动轮(72)安装在步进电机(8)的输出轴上，所述传送带(73)上安装有移动机构(76)，所述移动机构(76)的侧壁与横梁(78)连接，所述横梁(78)的底部通过连接杆与真空吸盘(79)固定。

2.根据权利要求1所述的一种萃盘不间断供料机构，其特征在于：所述安装座(71)上还设置有导轨(75)，所述移动机构(76)位于导轨(75)上并与导轨(75)滑动连接，所述导轨(75)的一端部还固定安装有限位块(77) 。

3.根据权利要求1所述的一种萃盘不间断供料机构，其特征在于：所述主动轮(72)和从动轮(74)上均匀等间距的开设有凹槽，所述传送带(73)的工作面均匀等间距的安装有与凹槽相适配的凸块。

4.根据权利要求1所述的一种萃盘不间断供料机构，其特征在于：所述萃盘上料升降模组(4)包括两组固定在安装底座(1)上的立柱(43)，两组所述立柱(43)之间滑动连接有升降板(44)，所述升降板(44)的底部通过轴承与传动丝杠(42)连接，所述传动丝杠(42)的底端贯穿安装底座(1)并与位于安装底座(1)底部的伺服电机(41)的输出端连接。

5.根据权利要求4所述的一种萃盘不间断供料机构，其特征在于：两组所述立柱(43)的侧壁对称开设有一体成型的嵌接槽，所述升降板(44)的两端位于嵌接槽中。

6.根据权利要求1所述的一种萃盘不间断供料机构，其特征在于：所述空萃盘下料模组(9)的下方还安装有空萃盘满料机构(10)，且空萃盘满料机构(10)位于空萃盘下料托盘(3)的一端。