[发明专利]一种海洋蓝色热反射镀膜玻璃及其制备方法在审
申请号: | 201811552006.4 | 申请日: | 2018-12-18 |
公开(公告)号: | CN109336413A | 公开(公告)日: | 2019-02-15 |
发明(设计)人: | 姜磊;李向阳;董炳荣;吴广宁;张要朋;宋惠平 | 申请(专利权)人: | 浙江旗滨节能玻璃有限公司;深圳市新旗滨科技有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
地址: | 312000 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 热反射镀膜玻璃 海洋 玻璃基层 镀膜层 热反射层 介质层 制备 玻璃 玻璃钢化 镀膜膜层 环境融合 太阳光线 颜色稳定 有效反射 有效限制 层厚度 反射色 热辐射 太阳光 玻面 脱膜 室外 节能 室内 观察 协调 | ||
1.一种海洋蓝色热反射镀膜玻璃,包括玻璃基层及设置于所述玻璃基层一侧的镀膜层,其特征在于,所述镀膜层包括自所述玻璃基层的一侧依次向外设置的第一介质层、第一热反射层、第二热反射层及第二介质层;所述第一介质层的厚度为50nm~100nm,所述第一热反射层的厚度为3nm~20nm,所述第二热反射层的厚度为5nm~35nm,所述第二介质层的厚度为20nm~50nm。
2.如权利要求1所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃,其特征在于,所述海洋蓝色热反射镀膜玻璃还包括缓冲层,所述缓冲层设于所述玻璃基层与所述第一介质层之间,所述缓冲层的厚度为10nm~20nm。
3.如权利要求2所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃,其特征在于,所述缓冲层包括SiOx层,SiOx中x的范围是1.0~2.00。
4.如权利要求1所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃,其特征在于,所述第一介质层包括SiNx层,SiNx中x的范围是0.5~1.33。
5.如权利要求1所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃,其特征在于,所述第一热反射层包括Cr层和/或CrNx层,CrNx中x的范围是0.5~1.0。
6.如权利要求5所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃,其特征在于,所述第一热反射层包括Cr层和CrNx层,所述Cr层的厚度为1nm~10nm,所述CrNx层的厚度为2nm~20nm。
7.如权利要求1所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃,其特征在于,所述第二热反射层为NiCr层。
8.如权利要求1所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃,其特征在于,所述第二介质层为SiNx层,SiNx中x的范围是0.5~1.33。
9.如权利要求1所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃,其特征在于,所述海洋蓝色热反射镀膜玻璃的玻面颜色L*为42~53,a*为-6.0~-3.5,b*为-15.5~-11.5。
10.如权利要求1所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃,其特征在于,经过钢化工艺热加工处理后,所述海洋蓝色热反射镀膜玻璃的玻面反射色L*为40~55,a*为-5.5~-2.0,b*为-14.0~-9.0。
11.一种海洋蓝色热反射镀膜玻璃的制备方法,用于制备如权利1至10任一项所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃,其特征在于,该制备方法包括:
在真空环境下用靶材对玻璃基层表面进行真空磁控溅射,依次溅射形成第一介质层、第一热反射层、第二热反射层、第二介质层,从而形成镀膜;所述第一介质层的厚度为50nm~100nm,所述第一热反射层的厚度为3nm~20nm,所述第二热反射层的厚度为5nm~35nm,所述第二介质层的厚度为20nm~50nm。
12.如权利要求11所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:
在所述玻璃基层表面进行真空溅射形成第一介质层之前,先在所述玻璃基层表面进行真空溅射形成缓冲层,所述缓冲层的厚度为10nm~20nm。
13.如权利要求11或12所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,
在该制备方法中,由硅铝靶磁控溅射形成SiOx层和SiNx层,所述硅铝靶的硅铝重量比为9:1;由铬靶磁控溅射形成Cr层和CrNx层,所述铬靶的铬纯度为99.95%;由镍铬靶磁控溅射形成NiCr层,所述镍铬靶的镍铬重量比为8:2;其中,所述铬靶、所述镍铬靶为平面靶,所述硅铝靶为旋转靶。
14.如权利要求13所述的海洋蓝色热反射镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,
所述硅铝靶的溅射功率为15~70Kw,溅射形成所述SiOx层的溅射氛围是氩氧气氛,氩和氧的体积比是1:1,溅射气压为2~5*10-3mbar;溅射形成所述SiNx层溅射氛围是氩氮气氛,氩和氮的体积比是1:1,溅射气压为2~5*10-3mbar;
所述铬靶的溅射功率为1~20Kw,溅射形成所述Cr层的溅射氛围是纯氩气氛,溅射气压为2~5*10-3mbar;溅射形成所述CrNx层的溅射氛围是氩氮气氛,氩和氮的体积比是1:1,溅射气压为2~5*10-3mbar;
所述镍铬靶功率为1~20Kw,溅射形成所述NiCr层的溅射氛围是纯氩气氛,溅射气压为2~5*10-3mbar。
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