[发明专利]一种氟化铝晶体颗粒的制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201811552222.9 申请日: 2018-12-19
公开(公告)号: CN109576782A 公开(公告)日: 2019-04-05
发明(设计)人: 彭程;孙静;石志霞;张恒;张碧田;段华英 申请(专利权)人: 有研工程技术研究院有限公司
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B29/12;C23C14/06;C23C14/24
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 陈波
地址: 101407 北京市怀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 密封坩埚 氟化铝 晶体颗粒 氟化铝粉 位于炉体 高纯 无水 制备方法和应用 真空加热 加热 光学镀膜材料 制备技术领域 真空加热炉 白色晶体 镀膜过程 隔热材料 化工材料 颜色均一 蒸汽冷凝 加热区 隔开 可用 内置 喷料 坩埚 冷却 升华 生长
【权利要求书】:

1.一种氟化铝晶体颗粒的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)将高纯无水氟化铝粉体置于坩埚中,密封坩埚;

(2)利用真空加热炉对所述密封坩埚真空加热,所述密封坩埚内置有高纯无水氟化铝粉体的部分位于炉体加热区内,密封坩埚顶部位于炉体加热区外,并利用隔热材料将密封坩埚位于炉体加热区内、外的两部分隔开;

(3)开始真空加热,密封坩埚内高纯无水氟化铝粉体升华,密封坩埚顶部的氟化铝蒸汽冷凝结晶,同时氟化铝晶体颗粒不断生长,冷却后制得所述氟化铝晶体颗粒。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述坩埚材料为不与氟化铝反应的材料。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述坩埚材料为石墨、钨、钼、钽或铌。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述密封坩埚顶部高出炉体加热区5~30cm。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述密封坩埚顶部高出炉体加热区10~20cm。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述真空加热炉为真空碳管炉或真空感应炉。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述真空加热的真空度为0.01~100Pa,升温时间为1~10小时,加热温度为900~1300℃,保温时间为1~10小时。

8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述真空加热的真空度为0.1~20Pa,升温时间为2~5小时,加热温度为1000~1200℃,保温时间为2~5小时。

9.一种权利要求1~8任一项所述制备方法制备的氟化铝晶体颗粒在镀膜中的应用,其特征在于,以所述氟化铝晶体颗粒为镀膜材料,镀膜过程无喷料。

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