[发明专利]扫描电子显微镜校准图形样片及制备方法

权利要求书

1.扫描电子显微镜校准图形样片，其特征在于，包括：

基板；

仪器放大倍率校准图形，设置于所述基板上，用于对图形进行校准；

快速寻迹标志图形，设置于所述仪器放大倍率校准图形的旁侧，用于寻迹所述仪器放大倍率校准图形。

2.如权利要求1所述的扫描电子显微镜校准图形样片，其特征在于，所述仪器放大倍率校准图形包括：

光栅结构，包括若干个顺次排列的光栅单元，每个所述光栅单元均具有多条明暗相间周期排列的栅条，每个所述光栅单元的旁侧对应设有一所述快速寻迹标志图形；和

格栅结构，所述格栅结构的旁侧对应设有一所述快速寻迹标志图形。

3.如权利要求2所述的扫描电子显微镜校准图形样片，其特征在于，所述光栅单元中明暗栅条的结构为：明栅条凸起在所述基板上，暗栅条为相邻两个明栅条之间形成的凹槽，其中，一明一暗为一个周期，每个周期尺寸的范围为100nm-10μm。

4.如权利要求3所述的扫描电子显微镜校准图形样片，其特征在于，所述光栅结构的周期尺寸范围为100nm-500nm时，校准图形的有效加工尺寸为100μm×100μm；周期尺寸范围为1μm-10μm时，校准图形的有效加工尺寸为1mm×1mm。

5.如权利要求2所述的扫描电子显微镜校准图形样片，其特征在于，每个所述光栅单元最外侧的两条明栅条用作被标记的栅条，所述用作被标记的栅条的长度长于其他的栅条的长度。

6.如权利要求2-5任一项所述的扫描电子显微镜校准图形样片，其特征在于，所述光栅结构包括X向光栅结构和Y向光栅结构，其中，所述X向光栅结构的栅条的长度方向与坐标轴中X方向垂直，所述Y向光栅结构的栅条的长度方向与坐标轴中Y方向垂直。

7.如权利要求2所述的扫描电子显微镜校准图形样片，其特征在于，所述格栅结构的上下左右分别设有一个所述快速寻迹标志图形。

8.如权利要求2所述的扫描电子显微镜校准图形样片，其特征在于，所述格栅结构中的栅格为设置于所述基板上的凹凸相间的槽，周期尺寸范围为2μm-10μm，校准图形的有效加工尺寸为1mm×1mm。

9.如权利要求1所述的扫描电子显微镜校准图形样片，其特征在于，所述快速寻迹标志图形为三角形结构，所述三角形的一个顶角指向所述仪器放大倍率校准图形。

10.如权利要求1-9任一项所述的扫描电子显微镜校准图形样片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

材料准备：采用双面抛光的硅片作为衬底，硅片的晶相为100，使用电子清洗剂、去离子水超声清洗10min-20min，之后甩干10min-20min；

淀积：使用PECVD工艺淀积氮化硅层；

涂胶：在硅片表面涂光刻胶，在100℃-120℃温度下烘烤1min-5min；

光刻：使用电子束光刻或投影光刻制作图形；

曝光显影：显影80s-120s，定影40s-60s，去除透光区的光刻胶；

刻蚀：使用干法刻蚀进行刻蚀，将没有光刻胶掩蔽的线距区域的氮化硅层刻蚀掉；

去胶：去除光刻胶。