[发明专利]显示面板的制备方法、显示面板及显示装置

说明书

本发明实施例公开了一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置，其中，本发明实施例中该显示面板的制备方法包括：提供第一基板；在第一基板上涂覆黑色矩阵薄膜，并图案化黑色矩阵薄膜，在第一基板上形成黑色矩阵；与第一基板相对设置形成有遮光层图案的第二基板；在第一基板和第二基板之间提供液晶层。本发明实施例中采用黑色矩阵制作遮光层图案遮挡像素内漏光，可避免金属遮光层遮挡时反射和消偏的弊端，在成本和能耗不上升的同时，有效提升显示面板的对比度。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，具体涉及一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置。

背景技术

随着科技的发展和社会的进步，人们对于信息交流和传递等方面的依赖程度日益增加。而显示器件作为信息交换和传递的主要载体和物质基础，现已成为众多从事信息光电研究科学家争相抢占的热点和高地。对于现实画面的品质要求在逐步的提升中，其中对高对比度的需求成为一个重要的趋势。

对比度定义为白态与黑态的比值。所以对于对比度的提升，关键点有两个，一个是白态的亮度，一个是黑态的亮度。白态的亮度是可以通过简单的方法提升，比如提高背光的亮度，这样却会提高能耗，工作温度上升，增加散热的问题，成本也随之上升，由此可见，这种方法存在许多弊端；而另一方面，通过降低黑态亮度达到高对比度的目的，降低黑态的亮度，但目前没有有效的实施方案。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板的制备方法、显示面板及显示装置，在成本和能耗不上升的同时，有效提升显示面板的对比度。

为解决上述问题，第一方面，本申请提供一种显示面板的制备方法，所述方法包括：

提供第一基板；

在所述第一基板上涂覆黑色矩阵薄膜，并图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案；

与所述第一基板相对设置第二基板；

在所述第一基板和所述第二基板之间提供液晶层。

进一步的，所述图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案的步骤包括：

利用预设模拟光强光罩，图案化所述黑色矩阵薄膜，在所述第一基板上形成黑色矩阵遮光层图案。

进一步的，所述预设模拟光强光罩的线宽在1～4μm。

进一步的，所述预设模拟光强光罩为1～3个光罩形成的组合型光罩。

进一步的，所述模拟光强光罩包括从左到右依次设置的第一光罩、第二光罩和第三光罩，所述第一光罩和所述第二光罩之间设置第一间距，所述第二光罩和所述第三光罩之间设置第二间距。

进一步的，所述第三光罩为矩形，或者所述第三光罩右侧为锯齿状，左侧为直线型。

进一步的，所述第一光罩左侧为锯齿状，右侧为直线型，或者所述第一光罩为矩形。

进一步的，所述第一间距和所述第二间距距离相等。

进一步的，所述预设模拟光强光罩为一个独立光罩，所述预设模拟光强光罩两侧均为锯齿状。

进一步的，所述预设模拟光强光罩两侧对称。

进一步的，所述黑色矩阵遮光层图案的线宽为3μm。

第二方面，本申请提供一种显示面板，所述显示面板采用如第一方面中任一项所述的显示面板的制备方法制备而成。

第三方面，本申请提供一种显示装置，其特征在于，包括第二方面所述的显示面板。