[发明专利]具有至少一摄像机的校正系统与相应方法有效
申请号: | 201811561531.2 | 申请日: | 2018-12-20 |
公开(公告)号: | CN109945779B | 公开(公告)日: | 2023-09-05 |
发明(设计)人: | 陈建利;倪玉河;郭建成;王德民 | 申请(专利权)人: | 汉辰科技股份有限公司 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00;G01B11/24;G01B11/26 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 徐伟 |
地址: | 中国台湾新竹市新竹*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 至少 摄像机 校正 系统 相应 方法 | ||
1.一种校正方法,包括:
使用一摄像机先取得具有至少一特征的一目标组件在一平面的第一图像,然后再沿着一特定方向改变目标组件的几何状态并取得所述目标组件在所述平面的第二图像,在此任一所述图像都具有对应到所述至少一特征的至少一特征消息;以及
辨识所述第一图像与所述第二图像中对应到所述至少一特征的至少两个特征消息,然后与预载标准特征消息中对应到相同至少一特征的至少一标准特征消息相互比较,藉以得到所述目标组件的校正信息。
2.如权利要求1所述的校正方法,其特征在于,更包括至少下列之一:
所述特征消息为所述目标组件本身的至少一特征所对应的特征消息;以及
所述特征消息为所述目标组件与至少一参考组件间至少一相对特征所对应的特征消息。
3.如权利要求2所述的校正方法,其特征在于,更包括至少下列之一:
所述目标组件与所述参考组件相互分离;
所述参考组件位于所述目标组件的附近区域;
所述目标组件与所述参考组件位于同一个腔体内部;
所述目标组件与所述参考组件位于同一个制造设备内部;
所述目标组件是选自下列之一:晶圆、静电吸盘、晶圆夹取器、扫描臂与机械手臂;以及
所述参考组件是选自下列之一:静电吸盘、晶圆夹取器、扫描臂、机械手臂与腔体壁。
4.如权利要求1所述的校正方法,其特征在于,所述特征的种类至少包括位置、角度、形状、距离、尺寸及方向性,其中,所述角度包括扭转角度与倾斜角度。
5.如权利要求1所述的校正方法,其特征在于,至少包括下列之一:
所述目标组件的校正信息包括所述目标组件的几何状态与标准几何状态的差别;
所述目标组件的校正信息包括所述目标组件的几何状态与所述标准几何状态的差别量是否在可接受阈值内;以及
所述目标组件校正信息包括将所述目标组件的几何状态调整至所述标准几何状态所需要的调整方式与调整量。
6.如权利要求1所述的校正方法,其特征在于,沿着所述特定方向改变所述目标组件的几何状态的方式至少包括:所述目标组件绕着某轴线转动、所述目标组件位于某一平面并绕通过此平面的某轴线转动、以及所述目标组件沿着某轴线移动。
7.如权利要求1所述的校正方法,其特征在于,将所述预载标准特征消息存储于可读取写入存储媒体,其中,所述可读取写入存储媒体至少包括下列之一:云端硬盘或暂存存储器。
8.如权利要求1所述的校正方法,其特征在于,所述沿着一特定方向改变目标组件的几何状态并取得所述目标组件在所述平面的第二图像的步骤包括:
在所述第二图像显示比所述第一图像大的特征间距离时,再沿所述特定方向移动所述目标组件。
9.如权利要求1所述的校正方法,其特征在于,所述沿着一特定方向改变目标组件的几何状态并取得所述目标组件在所述平面的第二图像的步骤包括:
在所述第二图像显示比所述第一图像小的特征间距离时,再沿着与所述特定方向相反的方向移动所述目标组件。
10.如权利要求1所述的校正方法,其特征在于,所述沿着一特定方向改变目标组件的几何状态并取得所述目标组件在所述平面的第二图像的步骤包括:
在所述第二图像显示比所述第一图像大的特征角度时,再沿着所述特定方向移动所述目标组件。
11.如权利要求1所述的校正方法,其特征在于,所述沿着一特定方向改变目标组件的几何状态并取得所述目标组件在所述平面的第二图像的步骤包括:
在第二图像显示比第一图像小的特征角度时,再沿着与所述特定方向相反的方向移动所述目标组件。
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