[发明专利]离子供应系统和控制离子供应系统的方法有效
申请号: | 201811561929.6 | 申请日: | 2018-12-20 |
公开(公告)号: | CN109950123B | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | A·C·彼德森;D·切尔内绍夫;J-P·豪斯切德;E·考金 | 申请(专利权)人: | 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司 |
主分类号: | H01J49/02 | 分类号: | H01J49/02;H01J49/06 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈洁;姬利永 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子 供应 系统 控制 方法 | ||
1.一种离子供应系统,其包括
-将离子发射到前真空室中的离子源;
-离子传输装置,其具有布置在所述前真空室中的堆叠电极;
-控制系统,其向所述离子传输装置的堆叠电极提供振荡电压,
-和布置在所述离子传输装置下游的真空室,所述真空室中布置有真空计,其中真空计的压力信号被提供给提供振荡电压的所述控制系统,并且所述控制系统提供具有振幅的振荡电压,所述振幅的最大值和最小值与所述真空计的压力信号相关。
2.根据权利要求1所述的离子供应系统,其中当所述真空计检测到压力变化时,由所述控制系统提供给所述离子传输装置的堆叠电极的振荡电压将改变。
3.根据权利要求2所述的离子供应系统,其中所述控制系统根据校准曲线改变由所述控制系统提供至所述离子传输装置的堆叠电极的振荡电压。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的离子供应系统,其中所述真空计布置在靠近所述离子传输装置的装置出口的真空室中。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的离子供应系统,其中所述真空计布置在靠近在所述离子传输装置下游的提取透镜的透镜孔的真空室中,所述透镜孔布置在所述前真空室和真空室之间。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的离子供应系统,其中离子传输 装置的相邻堆叠电极的间隔在离子行进方向上增加。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的离子供应系统,其中所述离子传输装置的堆叠电极被分组为第一电极组,其定位成邻近离子传输装置入口,和第二电极组,其定位邻近离子传输装置出口,并且第一电极组的电极的孔尺寸相对于第二电极组的电极的孔更大。
8.根据权利要求1至3中任一项所述的离子供应系统,其中所述离子传输装置的堆叠电极具有孔,其在尺寸上从所述离子传输装置的入口到所述离子传输装置的出口减小。
9.一种离子供应系统,其包括
-将离子发射到前真空室中的离子源;
-离子传输装置,其具有布置在所述前真空室中的堆叠电极;
-控制系统,其向所述离子传输装置的堆叠电极提供振荡电压,
-和布置在所述离子传输装置下游的真空室,
其中真空计布置在前真空室中,并且其中真空计的压力信号被提供给提供振荡电压的所述控制系统,并且所述控制系统提供具有振幅的振荡电压,所述振幅的最大值和最小值与所述真空计的压力信号相关。
10.一种将离子供应到真空系统中的方法,包括以下步骤:
(i)在离子源中产生离子;
(ii)将离子发射到具有堆叠电极的离子传输装置的离子通道中,所述离子传输装置布置在前真空室中;
(iii)向离子传输装置的堆叠电极施加振荡电压,使得穿过离子传输装置的离子径向限制在布置在离子传输装置后面的孔中,通过该孔,它们进入真空室;
(iv)用真空计测量离子传输装置下游的真空室中的压力;
(v)将真空计的压力信号提供给控制单元,其至少控制施加到离子传输装置的堆叠电极的振荡电压;
其中控制单元向堆叠电极施加振荡电压,该振荡电压的最大值和最小值与在真空室中测量的压力相关。
11.一种将离子供应到真空系统中的方法,包括以下步骤:
(i)在离子源中产生离子;
(ii)将离子发射到具有堆叠电极的离子传输装置的离子通道中,所述离子传输装置布置在前真空室中;
(iii)向离子传输装置的堆叠电极施加振荡电压,使得穿过离子传输装置的离子径向限制在布置在离子传输装置后面的孔中,通过该孔,它们进入真空室;
(iv)用真空计测量前真空室中的压力;
(v)将真空计的压力信号提供给控制单元,其至少控制施加到离子传输装置的堆叠电极的振荡电压;
其中所述控制单元向堆叠电极施加振荡电压,该振荡电压的最大值和最小值与在前真空室中测量的压力相关。
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