[发明专利]用于夹持塑封晶圆的固定装置及真空溅射金属薄膜工艺有效
申请号: | 201811562109.9 | 申请日: | 2018-12-19 |
公开(公告)号: | CN109786314B | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 姚大平 | 申请(专利权)人: | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/683;H01L21/48;C23C14/16;C23C14/34;C23C14/50 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 朱静谦 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 夹持 塑封 固定 装置 真空 溅射 金属 薄膜 工艺 | ||
1.一种用于夹持塑封晶圆的固定装置,其特征在于,包括:
底板(4),用于承载所述塑封晶圆(1),所述底板(4)的上表面和下表面均为平面;
固定结构,设置于所述底板(4)上表面的边缘处,与所述底板(4)形成用于固定所述塑封晶圆(1)的承载空间;
管道结构,成型在所述底板(4)上,用于对所述塑封晶圆(1)与所述底板(4)之间的间隙抽吸真空,使所述塑封晶圆(1)与所述底板(4)的上表面始终保持紧密贴合,所述管道结构还连通有进气系统;
所述固定结构包括:
侧壁(3),设置于所述底板(4)上方,所述侧壁(3)的横截面为圆环形,所述侧壁(3)的内径与所述塑封晶圆(1)的直径相适配;
固定圈(2),设置于所述侧壁(3)上方,所述固定圈(2)的横截面为圆环形,所述固定圈(2)的内径小于所述塑封晶圆(1)的直径,所述侧壁(3)、所述固定圈(2)以及所述底板(4)形成所述承载空间;
所述侧壁(3)与所述底板(4)固定连接,所述固定圈(2)与所述侧壁(3)可拆卸的连接,所述侧壁(3)上部设置有若干安装孔,所述固定圈(2)靠近所述侧壁(3)的一端设置有若干与所述安装孔适配的凸钉,所述侧壁(3)与所述固定圈(2)通过所述安装孔以及所述凸钉紧密连接。
2.根据权利要求1所述的用于夹持塑封晶圆的固定装置,其特征在于,所述底板(4)为与所述塑封晶圆(1)适配的圆形平板。
3.根据权利要求1或2所述的用于夹持塑封晶圆的固定装置,其特征在于,所述管道结构包括至少一个贯通所述底板(4)的上表面和下表面设置的通孔(5),所述通孔(5)与外部真空系统相连接。
4.根据权利要求3所述的用于夹持塑封晶圆的固定装置,其特征在于,所述管道结构还包括若干环形沟槽(7),同心设置于所述底板(4)的上表面且均匀分布,若干所述环形沟槽(7)通过至少一个沿所述底板(4)的径向设置的线性槽(6)与所述通孔(5)连通;
密封堵头,可拆卸的设置于所述通孔(5)与外部所述真空系统连接的一端。
5.一种塑封晶圆的真空溅射金属薄膜工艺,其特征在于,包括:在真空溅射金属薄膜工艺流程中将所述塑封晶圆(1)安装于权利要求1-4任一项所述的固定装置中。
6.根据权利要求5所述的塑封晶圆的真空溅射金属薄膜工艺,其特征在于,将所述塑封晶圆(1)安装于所述固定装置中后再对所述塑封晶圆(1)进行升温脱气的工艺步骤;
或者将所述塑封晶圆(1)安装于所述固定装置中的步骤与所述塑封晶圆(1)升温脱气的工艺步骤同时进行;
或者对所述塑封晶圆(1)进行刻蚀氧化膜前,或者进行溅射粘附金属薄膜前,或者进行溅射种子金属薄膜前将所述塑封晶圆(1)安装于所述固定装置中。
7.根据权利要求6所述的塑封晶圆的真空溅射金属薄膜工艺,其特征在于,还包括:将所述塑封晶圆(1)从所述固定装置中取出后再进行后续的处理步骤。
8.根据权利要求7所述的塑封晶圆的真空溅射金属薄膜工艺,其特征在于,将所述塑封晶圆(1)安装于所述固定装置中的步骤与所述塑封晶圆(1)升温脱气的工艺步骤同时进行,并在溅射种子金属薄膜工艺流程后将所述塑封晶圆(1)从所述固定装置中取出。
9.一种用于将塑封晶圆安装于权利要求1-4任一所述的固定装置中的安装设备,其特征在于,包括:
第一平台(9),设置有用于承载所述固定装置的第一腔室,所述第一平台(9)上还设置有一端与所述管道结构连通设置的孔道,所述孔道的另一端与外部真空系统连接,外部所述真空系统通过所述孔道和所述管道结构对所述塑封晶圆(1)与所述底板(4)之间的间隙抽吸真空;
加热装置,至少设于所述第一平台(9)上,用于对所述固定装置以及所述塑封晶圆(1)加热升温。
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造