[发明专利]一种彩色太阳能电池及其制备方法在审
申请号: | 201811566689.9 | 申请日: | 2018-12-20 |
公开(公告)号: | CN111354800A | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 张德忠;王雪戈 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/032;H01L31/18 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 朱静谦 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 彩色 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种彩色太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
在沉积有CIGS吸收层的衬底上沉积硫化镉缓冲层,
通过调整所述硫化镉缓冲层的厚度来改变太阳能电池的外观颜色。
2.根据权利要求1所述的彩色太阳能电池的制备方法,其特征在于,
所述硫化镉缓冲层的厚度为20-30nm、30-40nm、40-50nm、50-65nm或65-80nm。
3.根据权利要求2所述的彩色太阳能电池的制备方法,其特征在于,
所述硫化镉缓冲层的沉积方法为磁控溅射沉积或化学水浴沉积。
4.根据权利要求1所述的彩色太阳能电池的制备方法,其特征在于,还包括在衬底上形成背电极层的步骤;
在硫化镉缓冲层上形成窗口层的步骤。
5.根据权利要求4所述的彩色太阳能电池的制备方法,其特征在于,
所述窗口层分为两部分,一部分是透明高阻层,材料为本征氧化锌和氧化铝,厚度为10-50nm;另一部分是透明导电层,材料为AZO、ITO或FTO,厚度为100-1000nm。
6.根据权利要求1所述的彩色太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述CIGS吸收层的沉积方法为热蒸发、磁控溅射、电化学或化学水浴沉积;
所述CIGS吸收层的厚度为500-2000nm。
7.根据权利要求4所述的彩色太阳能电池的制备方法,其特征在于,还包括在衬底与背电极层之间沉积阻挡层,
所述阻挡层的材料为氧化钼、氮化钼或金属铬;
所述阻挡层的厚度为50-500nm。
8.根据权利要求7所述的彩色太阳能电池的制备方法,其特征在于,还包括在沉积有阻挡层衬底的另一面沉积50-300nm金属钼层的步骤。
9.根据权利要求1-8任一项所述的彩色太阳能电池的制备方法,其特征在于,还包括,
在所述窗口层上沉积栅线电极的步骤;所述沉积栅线电极的方法为在所述窗口层上蒸镀或磁控溅射镍铝镀层;
通过封装层进行封装的步骤。
10.一种彩色太阳能电池,其特征在于,采用权利要求1-9任一项所述的制备方法制得。
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