[发明专利]背光结构在审

专利信息
申请号: 201811569734.6 申请日: 2018-12-21
公开(公告)号: CN109407404A 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 查国伟 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 复合介质层 折射率 发光二极管阵列 背光结构 金属栅线 平坦层 荧光层 基板 金属线配置 扩散层 夹设
【说明书】:

发明公开一种背光结构,其包含一基板;一发光二极管阵列层,设置在所述基板上;一平坦层,设置在所述发光二极管阵列层上;一复合介质层,设置在所述平坦层上;一金属栅线层,具有数条金属线配置在所述复合介质层上;一荧光层,设置在所述金属栅线层上;以及一扩散层,设置在所述荧光层上;其中所述复合介质层包含一第一介质、一第二介质以及一第三介质,所述第二介质夹设于所述第一介质与所述第三介质之间,所述第一介质的折射率与所述第三介质的折射率均小于所述第二介质的折射率。

技术领域

本发明是有关于一种背光结构,特别是有关于一种具有选择性通过或反射特定偏振光的背光结构。

背景技术

随着可穿戴应用设备如智能眼镜、智能手表等的逐渐兴起,显示行业对可挠曲显示器件的需求也不断增加。有机发光二极管显示器件(Organic Light Emitting Display,OLED)具有自发光不需背光源、厚度薄、视角广、反应速度快等特点,从而具有可挠曲显示的天然优势。面对柔性OLED的竞争,传统的液晶显示技术也逐渐采用柔性衬底往柔性、曲面等方向进行突破。

为了满足全面屏的需求,如何实现四周全面窄边框成为显示装置的下一个重点突破方向。在小型显示装置上,直下式背光模组具有窄边框的优势,若加上采用小尺寸的mini-LED(次毫米发光二极管)以更小的间距进行排列,可以获得较小的混光距离,提供了缩减边框的可能性。然而,由于mini-LED是以阵列方式配置多个尺寸约100微米的LED单元,LED单元本身及其焊盘会构成面积比例较大的低反射体,且相邻的LED单元之间通常使用高反射率的涂层,或其他高反射材料覆盖,所述高反射材料的反射率70至90%,因此使得整体反射效率仅能达到大约80%,导致整体光子效率较低而影响了亮度与功耗水准。

故,有必要提供一种背光结构,以解决现有技术所存在的问题。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种背光结构,通过使用低吸收率树脂作为一平坦层,填平并覆盖具有一mini-LED阵列的一发光二极管层,然后在所述平坦层上通过沉积不同折射率的介质与金属层,形成带通带反的一金属线栅层,使得所述金属线栅层能够选择性的允许所述mini-LED发光主波长附近的TM偏振态通过,并反射其他波长或者TE偏振态的其余光线,从而在背光结构中的反射片与增亮片之间被循环回光体系中,能够有效降低通过增亮片反射回来的光线重新接触到低反射率的mini-LED阵列上,使得所述背光结构的整体光子利用效率提升,以获得高效率的一背光模组。

为达成本发明的前述目的,本发明一实施例提供一种背光结构,其特征在于:所述背光结构包含:一基板;一发光二极管阵列层,设置在所述基板上,所述发光二极管阵列层包含数个发光二极管;一平坦层,设置在所述发光二极管阵列层上,并且所述平坦层填充所述数个发光二极管之间的间隙;一复合介质层,设置在所述平坦层上;一金属栅线层,具有数条金属线配置在所述复合介质层上;一荧光层,设置在所述金属栅线层上;以及一扩散层,设置在所述荧光层上;其中所述复合介质层包含一第一介质、一第二介质以及一第三介质,所述第二介质夹设于所述第一介质与所述第三介质之间,所述第一介质的折射率与所述第三介质的折射率均小于所述第二介质的折射率。

在本发明的一实施例中,所述基板为一可挠基板或一印刷电路板。

在本发明的一实施例中,所述平坦层的材料选自硅胶、无色聚酰亚胺以及聚甲基丙烯酸甲酯所组成的一族群。

在本发明的一实施例中,所述金属线的材料为铝、银或金。

在本发明的一实施例中,所述数条金属线是以一周期排布在所述复合介质层上,所述周期为200至500纳米,所述金属栅线层具有一占空比为0.4至0.9。

在本发明的一实施例中,所述数条金属线具有一平均高度为20至200纳米。

在本发明的一实施例中,所述荧光层包含数个荧光粉体或量子点粒子。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811569734.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top