[发明专利]一种氧化锌电阻片的成分计算方法

权利要求书

1.一种氧化锌电阻片的成分计算方法，其特征在于，包括：

对所述氧化锌电阻片进行拆解，获得胚体、电极、玻璃釉和高阻层；

根据预设的扫描路径对所述胚体、电极进行能谱扫描，通过第一方程式和第二方程式获得所述胚体、电极中金属氧化物的含量；其中，所述第一方程式为：

所述第二方程式所得的结果为所述胚体、电极中金属氧化物的含量，所述第二方程式为δ*M/（δ_Zn*81）；其中，δ为金属氧化物的能谱积分因子；e为反射强度；n为扫描纵向路径，n≥10；m为扫描横向路径，m≥10；δ_Zn为氧化锌的能谱积分因子；M为金属氧化物的分子量；D表示积分路径的长度；

对所述玻璃釉和高阻层进行XRD测试获得所述玻璃釉、高阻层中各成分的衍射强度，将所述衍射强度与对应的标准衍射卡中的衍射强度进行对比，即可获得所述玻璃釉、高阻层中各成分的含量。

2.根据权利要求1所述的成分计算方法，其特征在于，所述预设的扫描路径包括：在所述胚体、电极上设置n个位置用于扫描获取形貌图，且在所述胚体、电极上设置m条直线用于进行能谱扫描来获取反射X光强度曲线，其中，n、m均不小于10。

3.根据权利要求2所述的成分计算方法，其特征在于，所述直线贯穿所述形貌图所在的位置。

4.根据权利要求1所述的成分计算方法，其特征在于，所述胚体、电极进行扫描前还包括：对所述胚体、电极进行抛光、研磨、打磨和喷金处理。

5.根据权利要求4所述的成分计算方法，其特征在于，所述胚体、电极进行研磨后的粉体粒径均为8-10μm。

6.根据权利要求1所述的成分计算方法，其特征在于，所述玻璃釉和高阻层在进行XRD测试前还包括：对所述玻璃釉、高阻层进行抛光、研磨处理。

7.根据权利要求6所述的成分计算方法，其特征在于，所述玻璃釉和高阻层进行研磨后的粉体粒径均为8-10μm。