[发明专利]光学设备

说明书

本发明提供了一种光学设备，包括：控制系统、光学系统；控制系统通过电信号调节光学系统中介质的折射率，使得入射光在介质中传播一段距离后，以与所述电信号相应的出射参数从介质中出射。所述路径参数是描述从介质中出射的出射光的传播路径的参数。本发明通过器件介质折射率的调节，能够对光线通过介质后的出射角度以及出射位置等参数的调制。

技术领域

本发明涉及光调制领域，具体地，涉及光学设备。

背景技术

电光调制器的基础是电光效应。根据电光晶体的折射率变化量和外加电场强度的关系，电光效应可分为线性电光效应(泡克耳斯效应)和二次电光效应(克尔效应)。因为线性电光效应比二次电光效应的作用效果明显，因此实际中多用线性电光调制器对光波进行调制。线性电光调制器可分为纵向的和横向的。在纵向的调制器中，电场平行于光的传播方向，而横向调制器的电场则垂直于光传播的方向。

现有技术中通常利用电光效应，实现对光信号的相位、幅度、强度以及偏振状态的调制，而未见有对光线的出射角度以及出射位置等参数的调制。

发明内容

针对现有技术中的缺陷，本发明的目的是提供一种光学设备。

根据本发明提供的一种光学设备，包括：控制系统、光学系统；

控制系统通过电信号调节光学系统中介质的折射率，使得入射光在介质中传播一段距离后，以与所述电信号相应的出射参数从介质中出射。

优选地，所述出射参数包括路径参数，其中，所述路径参数是描述从介质中出射的出射光的传播路径的参数。

优选地，所述路径参数包括如下任一种或任多种参数：

出射位置；

出射角度。

优选地，所述光学系统包括：光调制器；

光调制器包括：

第一表面，其中，所述第一表面为接收入射光的表面

第二表面，其中，所述第二表面为与第一表面配合的表面，所述电信号施加在第一表面与第二表面上。

优选地，所述光调制器还包括：

第三表面，其中，所述第三表面为出射出射光的表面；第三表面与第一表面不平行；第三表面与第二表面为不同的表面或者为同一个表面。

优选地，所述光调制器包含液晶波导，波导表面为基板，中间介质为液晶。

优选地，所述液晶模式采用ECB、VA中的任一种；液晶采用相列相、近晶相、胆甾相中的任一种。

优选地，光调制器至少部分表面的部分区域涂有反射膜，使光线在此部分成镜面反射。

优选地，光线在调制器内传播，不同电信号情况下入射光对应介质的等效折射率不同，导致相同入射光对不同折射率对应的出射参数不同。

优选地，光调制器含多层结构，不同层之间由转向器连接，不同层之间电压均相同、仅部分相同或者均不相同。

优选地，包括多个光调制器；其中，所述多个光调制器以及光调制器之间的光耦合器件构成级联系统。

优选地，所述光学系统包括：一个或多个光源；

光源产生的入射光直接进入光调制器，或者通过耦合器件将入射光耦合入光调制器。

优选地，光源为激光。

优选地，光源为半导体激光器LD、垂直腔面激光器VCSEL、固体激光器、气体激光器、LED中的任一种或任多种。

优选地，光线入射光调制器时成布鲁斯特角。