[发明专利]一种氧化石墨烯层数测定方法在审
| 申请号： | 201811575038.6 | 申请日： | 2018-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN109459426A | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 李星;刘长虹;蔡雨婷;漆长席 | 申请（专利权）人： | 四川聚创石墨烯科技有限公司;大英聚能科技发展有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;G01N23/22;G01Q60/24 |
| 代理公司： | 成都中玺知识产权代理有限公司 51233 | 代理人： | 熊礼;邢伟 |
| 地址： | 610036 四川省遂宁*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氧化石墨烯 拉曼光谱 氧化石墨烯层 原子力显微镜 高分辨率 透射电子显微镜 洛伦兹力 透射电镜 系统完善 有机结合 峰拟合 峰数 直观 | ||
1.一种氧化石墨烯层数测定方法，其特征在于，所述测定方法包括以下步骤：
获取待测氧化石墨烯的拉曼光谱图，计算拉曼光谱图中的IG/I2D，当IG/I2D小于1.0时，初步判定氧化石墨烯为单层或双层结构；当IG/I2D为1.0～1.5时，初步判定氧化石墨烯为3层或4层结构；当IG/I2D大于1.5时，初步判定氧化石墨烯为5层以上结构，其中，所述IG表示G峰强度，所述I2D表示2D峰强度；
对初步判定为单层或双层结构的氧化石墨烯，利用原子力显微镜分辨氧化石墨烯为单层或者双层结构；
对初步判定为3层或4层结构的氧化石墨烯，计算所述拉曼光谱图的2D峰拟合的洛伦兹力峰数，分辨氧化石墨烯为3层或4层结构；
对初步判定为5层以上结构的氧化石墨烯，通过高分辨率透射电镜获取该氧化石墨烯的电子显微图像，观察确定所述氧化石墨烯具体层数。
2.根据权利要求1所述的氧化石墨烯层数测定方法，其特征在于，所述初步判定氧化石墨烯为单层或双层结构的步骤为当2D峰的半高宽为28cm-1～32cm-1且IG/I2D峰的强度之比小于0.7时，初步判定氧化石墨烯为单层结构；当2D峰的半高宽为48cm-1～52cm-1且IG/I2D峰的强度之比为大于等于0.7小于1.0时，初步判定氧化石墨烯为双层结构。
3.根据权利要求1所述的氧化石墨烯层数测定方法，其特征在于，所述利用原子力显微镜分辨氧化石墨烯为单层或者双层结构的步骤包括利用原子力显微镜获取氧化石墨烯的三维立体图像，并将该三维立体图像显示的厚度与单层的氧化石墨烯厚度进行对比，从而确定氧化石墨烯层数为单层或双层。
4.一种氧化石墨烯层数测定方法，其特征在于，所述测定方法包括以下步骤：
获取待测氧化石墨烯的拉曼光谱图，计算拉曼光谱图中的IG/I2D，在IG/I2D为1.0～1.5的情况下，初步判定氧化石墨烯为3层或4层结构；在IG/I2D大于1.5的情况下，初步判定氧化石墨烯为5层以上结构；在2D峰的半高宽为28cm-1～32cm-1且IG/I2D小于0.7的情况下，判定氧化石墨烯为单层结构；在2D峰的半高宽为48cm-1～52cm-1且IG/I2D为0.7～1.0的情况下，判定氧化石墨烯为双层结构，其中，所述IG表示G峰强度，所述I2D表示2D峰强度；
对初步判定为3层或4层结构的氧化石墨烯，计算所述拉曼光谱图的2D峰拟合的洛伦兹力峰数，分辨氧化石墨烯为3层或4层结构；
对初步判定为5层以上结构的氧化石墨烯，通过高分辨率透射电镜获取该氧化石墨烯的电子显微图像，观察确定所述氧化石墨烯具体层数。
5.根据权利要求1所述的氧化石墨烯层数测定方法，其特征在于，所述利用原子力显微镜分辨氧化石墨烯为单层或者双层结构的步骤，包括利用原子力显微镜获取氧化石墨烯的三维立体图像，并将该三维立体图像显示的厚度与单层的氧化石墨烯厚度进行对比，从而确定氧化石墨烯层数为单层或双层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川聚创石墨烯科技有限公司;大英聚能科技发展有限公司，未经四川聚创石墨烯科技有限公司;大英聚能科技发展有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811575038.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种应用于光纤气体传感的光纤适配装置
- 下一篇：基于激光的检测设备和方法
