[发明专利]一种基于陶瓷的薄膜电阻膜制作方法有效

专利信息
申请号: 201811576980.4 申请日: 2018-12-23
公开(公告)号: CN109686521B 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 周东平 申请(专利权)人: 苏州晶鼎鑫光电科技有限公司
主分类号: H01C17/08 分类号: H01C17/08
代理公司: 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 代理人: 明志会
地址: 215000 江苏省苏州市苏州工业园区*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 陶瓷 薄膜 电阻 制作方法
【权利要求书】:

1.一种基于陶瓷的薄膜电阻膜制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、将陶瓷基板进行预处理;

S2、将陶瓷基板装入工装夹具内,再投放入蒸发镀膜设备,在真空度达到2×10-2PA、温度达到200℃后开始镀膜;

S3、给真空室充99.999%纯度的氮气,流量为20-400CC/min;

S4、打开离子源,离化氮气,同时阳极电压设置在300-350V;

S5、蒸发99.99%纯度的金属钽,蒸发速度控制在1-20A/s,得到氮化钽薄膜,氮化钽薄膜的厚度为200-5000nm;

S6、蒸发镀膜完成后,设置降温曲线。

2.根据权利要求1所述的基于陶瓷的薄膜电阻膜制作方法,其特征在于:所述步骤S1具体为将陶瓷基板用温度为25℃、浓度为30%的盐酸浸泡5分钟,浸泡完成后,取出陶瓷基板,用纯水对陶瓷基板冲淋,再将陶瓷基板放入超声波清洗线进行清洗烘干。

3.根据权利要求1所述的基于陶瓷的薄膜电阻膜制作方法,其特征在于:所述步骤S6的降温曲线为第一阶段250℃恒温30-60分钟,第二阶段200℃恒温30-60分钟,第三阶段150℃恒温30-60分钟后自然冷却。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州晶鼎鑫光电科技有限公司,未经苏州晶鼎鑫光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811576980.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top