[发明专利]一种多波段分别曝光的曝光装置及方法有效
申请号: | 201811579100.9 | 申请日: | 2018-12-24 |
公开(公告)号: | CN109613802B | 公开(公告)日: | 2021-07-30 |
发明(设计)人: | 陈海巍;宋志尚;李显杰;钱聪;程珂;茆晓华;吴长江;徐敏;王伟;王军华;刘世林;袁征;蒯多杰 | 申请(专利权)人: | 无锡影速半导体科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05K3/28 |
代理公司: | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人: | 张勇 |
地址: | 214000 江苏省无锡市新吴区菱*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 波段 分别 曝光 装置 方法 | ||
1.一种多波段光学曝光装置,其特征在于,所述多波段光学曝光装置包括至少两组曝光子系统,每组曝光子系统匹配不同波长范围的光源和对应不同波长范围的光学器件;所述光学曝光装置还包括标定装置,所述标定装置用于对待曝光基板进行单方向上、平面上或者空间位置上进行标定以实现不同的曝光子系统对待曝光基板曝光时形成的图形重叠在同一位置,所述多波段光学曝光装置用于对PCB阻焊油墨进行多波段光学曝光。
2.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述每组曝光子系统匹配不同波长范围的光源包括:每组曝光子系统匹配不同波长的单波长光源和/或每组曝光子系统匹配不同波长范围内的集成光源。
3.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述光学曝光装置还包括运动平台,所述运动平台用于将待曝光基板送至不同的曝光子系统进行曝光。
4.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述标定装置包括以下任意一种:电荷耦合器件捕捉特征定位、机械或激光打孔定位、机械或人工调整摆放位置定位。
5.根据权利要求1-4任一所述的曝光装置,其特征在于,所述光学器件包括空间光调制器数字微镜。
6.一种多波段光学曝光方法,其特征在于,所述方法应用于权利要求1-4任一所述的多波段光学曝光装置。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述方法包括:
选择具有待曝光基板曝光时所需波长范围内的光源;
运动平台将待曝光基板送至匹配不同波长范围的光源和对应不同波长范围的光学器件的曝光子系统进行曝光;
采用标定系统对待曝光基板进行单方向上、平面上或者空间位置上进行标定。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述匹配不同波长范围的光源包括:每组曝光子系统匹配不同波长的单波长光源和/或每组曝光子系统匹配不同波长范围内的集成光源。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述对应不同波长范围的光学器件包括:根据所对应波长范围选择对应规格的空间光调制器数字微镜。
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