[发明专利]光源系统及投影设备

说明书

本发明涉及一种光源系统，包括：激光器组，所述激光器组出射的激光中至少有一部分作为所述光源系统的基色光；以及匀光元件，设置在所述激光器组出射的作为光源系统基色光的激光出光光路上，用于对所述作为光源系统基色光的激光进行匀光。本发明还涉及一种包括所述光源系统的投影设备。

技术领域

本发明涉及光学成像技术领域，尤其涉及一种光源系统及投影设备。

背景技术

高动态范围(HDR)投影系统能够增加投影机输出的对比度和峰值亮度，使得画面中的亮场和暗场部分都能显示丰富的灰阶信息从而大大提高画面的效果和观众的观影体验。现有的投影系统实现高动态范围一般采用激光光源阵列作为发光源，因为激光光源具有发散角小、电光转换效率高、单色性好等的特点，然而激光光源阵列中的中心波长相差3nm时，分区色差就会被人眼感知，而激光器的选型以及工作温度、工作电流和老化程度均可能导致所述激光光源阵列的中心波长偏移。因此高动态范围的投影系统对激光器的选型以及工作温度、工作电流和老化程度的调节需要严格要求，如此，增加了投影系统的复杂性。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种能克服上述问题的光源系统及投影设备。

一种光源系统，包括：

激光器组，所述激光器组出射的激光中至少有一部分作为所述光源系统的基色光；

匀光元件，设置在所述激光器组出射的作为光源系统基色光的激光出光光路上，用于对所述作为光源系统基色光的激光进行匀光；以及设置于所述匀光元件出光光路上的第一光调制元件，所述第一光调制元件用于根据待投影图像内容对所述匀光元件出射的所述基色光进行预调制。

一种投影设备，所述投影设备包括光源系统以及位于所述光源系统出光光路上的第二光调制元件，其中：所述光源系统为如上所述的光源系统；所述第二光调制元件用于对所述光源系统出射的光线进行调制。

与现有技术相比较，本发明提供的光源系统及由所述光源系统形成的投影设备，作为所述光源系统的基色光的光路上设置有所述匀光元件，利用匀光元件对基色光进行匀化，以消除基色光中心波长不一致的情况，从而，本发明的光源系统不需要严格调节激光器的选型，也不需要对工作温度、工作电流和老化程度进行严格调节，降低了系统的复杂性。

附图说明

图1是第一实施例提供的投影设备的具体结构示意图。

图2是第二实施例提供的光源系统的具体结构示意图。

图3是第三实施例提供的投影设备的具体结构示意图。

图4是第四实施例提供的投影设备的具体结构示意图。

图5是第五实施例提供的投影设备的具体结构示意图。

图6是第六实施例提供的投影设备的具体结构示意图。

主要元件符号说明

光源系统 100，100b，100c，100d，100e，100f

投影设备 200，400，500，600，700

激光器组 10，10b，10c，10d，10e

第一激光器组 11

第二激光器组 12

激光器 101，101c，102，103

匀光元件 20

第一光调制元件 30

第二光调制元件 201