[发明专利]一种超薄滤光片薄膜制备方法

权利要求书

1.一种超薄滤光片薄膜制作方法，其特征在于：包括如下步骤：

S1、玻璃基板预处理：对玻璃基板进行研磨加工，形成厚度为0.15mm的玻璃基片；

S2、清洗烘干处理：将玻璃基片进行超声除油除尘清洗处理，然后进行烘干；

S3、基片装夹：将清洗烘干后的玻璃基片装载至镀膜治具；

S4、镀膜：将上述镀膜治具装载至镀膜机进行蒸发镀膜，靶材为钽和硅，并使用离子源轰击气体分子，沉积得到具有新型膜系结构的超薄滤光片薄膜；所述新型膜系结构为：(HL)^n，其中，n为新型膜系结构的匹配系数，H为五氧化二钽(Ta₂O₅)介质层，L为二氧化硅(SiO₂)介质层；

所述新型膜系结构的结构如下：

S5、冷却及卸载：将玻璃基片冷却后从镀膜治具取出卸载。

2.根据权利要求1所述的超薄滤光片薄膜制作方法，其特征在于：所述步骤S4中，镀制每一层五氧化二钽介质层或二氧化硅介质层后，进行退火处理及老化处理；所述退火处理的操作为在每层介质层镀制结束后进行自然冷却，冷却时间为2分钟；所述老化处理的操作为在每层介质层镀制结束后进行2次反复的快速降温和升温操作，每次操作时间为2分钟。

3.根据权利要求1所述的超薄滤光片薄膜制作方法，其特征在于：步骤S4中，镀制每一层五氧化二钽介质层时，沉积气压为1.5E-2Pa，沉积速率为镀制每一层二氧化硅介质层时，沉积气压为1.0E-4Pa，沉积速率为

4.根据权利要求1所述的超薄滤光片薄膜制作方法，其特征在于：步骤S4中，离子源的工作功率为1.0～1.1KW。

5.根据权利要求1所述的超薄滤光片薄膜制作方法，其特征在于：镀膜机内离子源及电子枪设有挡板，且挡板均使用水冷式挡板。

6.根据权利要求1所述的超薄滤光片薄膜制作方法，其特征在于：步骤S5中，对玻璃基片在镀膜机的腔体内进行1小时的自然冷却，当玻璃基片达到常温时取出卸载。