[发明专利]特效处理方法、特效处理装置、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种特效处理方法，其特征在于，包括：

获取待处理特效，所述待处理特效包括一个或多个特效元素；

提取所述特效元素的特征；

基于所述特效元素的特征相似性，从所述特效元素中确定一个或多个相似特效元素集合；其中，基于所述特效元素的特征，生成所述特效元素的特征向量；计算所述特征向量之间的余弦相似度，将所述余弦相似度作为所述特效元素之间的特征相似度；

对所述相似特效元素集合中的特效元素进行精简化处理，并根据处理后的特效元素生成目标特效；其中，所述精简化处理包括删减处理和/或合并处理。

2.根据权利要求1所述的方法，所述对所述相似特效元素集合中的特效元素进行精简化处理，并根据处理后的特效元素生成目标特效包括：

对所述相似特效元素集合中的特效元素进行精简化处理，得到中间特效；

对所述中间特效进行加强渲染处理，得到所述目标特效。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取待处理特效包括：

获取多个原始特效；

将所述多个原始特效中达到预设条件的原始特效确定为所述待处理特效。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述预设条件包括关于所述原始特效的特效元素数量的阈值。

5.根据权利要求1-4任一项所述的方法，其特征在于，所述特效元素的特征包括以下任意一种或多种：所述特效元素的类别、数据量与存储路径。

6.一种特效处理装置，其特征在于，包括：

特效获取模块，用于获取待处理特效，所述待处理特效包括一个或多个特效元素；

特征提取模块，用于提取所述特效元素的特征；

集合确定模块，用于基于所述特效元素的特征相似性，从所述特效元素中确定一个或多个相似特效元素集合；其中，基于所述特效元素的特征，生成所述特效元素的特征向量；计算所述特征向量之间的余弦相似度，将所述余弦相似度作为所述特效元素之间的特征相似度；

特效处理模块，用于对所述相似特效元素集合中的特效元素进行精简化处理，并根据处理后的特效元素生成目标特效；其中，所述精简化处理包括删减处理和/或合并处理。

7.一种电子设备，其特征在于，包括：

处理器；以及

存储器，用于存储所述处理器的可执行指令；

其中，所述处理器配置为经由执行所述可执行指令来执行权利要求1-5任一项所述的方法。

8.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1-5任一项所述的方法。