[发明专利]一种量子点的制备方法

权利要求书

1.一种量子点的制备方法，其特征在于，包括步骤：

提供阴离子前驱体溶液，所述阴离子前驱体溶液包括V族前驱体、第一配位溶剂和介孔材料，所述V族前驱体包括P前驱体；

提供阳离子前驱体溶液，所述阳离子前驱体溶液包括III族前驱体，所述III族前驱体包括In前驱体；

将所述阴离子前驱体溶液和所述阳离子前驱体溶液混合，在所述介孔材料的孔道中进行量子点晶体生长；

加入脱附剂，得到所述量子点。

2.根据权利要求1所述的量子点的制备方法，其特征在于，得到所述量子点之后，还包括步骤：

在所述量子点表面形成壳层的步骤。

3.根据权利要求2所述的量子点的制备方法，其特征在于，所述阳离子前驱体溶液还包括Zn前驱体。

4.根据权利要求3所述的量子点的制备方法，其特征在于，所述阳离子前驱体溶液中的阳离子前驱体为In前驱体、Ga前驱体和Zn前驱体；和/或，

所述阴离子前驱体溶液中的阴离子前驱体为P前驱体。

5.根据权利要求3或4所述的量子点的制备方法，其特征在于，所述壳层为ZnS、ZnSe或ZnSSe。

6.根据权利要求1所述的量子点的制备方法，其特征在于，所述第一配位溶剂选自油酸、链长C1~C20饱和脂肪酸、C6~C22烷基取代的膦、C6~C22烷基取代的膦氧化物、C6~C22伯胺、C1~C22仲胺和C3~C40叔胺中的一种或多种；和/或，所述P前驱体选自三（三甲硅烷基）磷、三（二甲胺基）磷、三（二乙胺基）磷、二苯基膦、二乙氨基磷、P₄和PH₃中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的量子点的制备方法，其特征在于，所述介孔材料选自二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化钙、氟化钙和金属有机骨架中的一种或多种。

8.根据权利要求1所述的量子点的制备方法，其特征在于，所述介孔材料的孔径大小为2~5 nm。

9.根据权利要求1所述的量子点的制备方法，其特征在于，在温度250~310℃条件下，在所述介孔材料的孔道中进行量子点晶体生长。

10.根据权利要求1所述的量子点的制备方法，其特征在于，所述脱附剂选自无水乙醇、乙酸乙酯、氯仿、丙酮和甲醇中的一种或多种。