[发明专利]一种循环伏安分析仪的校准系统及其校准方法

说明书

本发明提供了一种循环伏安分析仪的校准系统及其校准方法，属于电镀领域。为了解决目前行业内对循环伏安分析仪的计量性能没有专门检定规程、校准规范等标准，造成其量值溯源的准确定不能有效保障，无法评价其计量特性的技术问题。本发明提供了一种循环伏安分析仪的校准系统及其校准方法，能够对循环伏安剥离分析仪的参数进行校准，并对其计量特性进行全面评价。

技术领域

本发明涉及电镀领域，特别是涉及一种循环伏安分析仪的校准系统及其校准方法。

背景技术

目前电镀液添加剂分析仪基本采用循环伏安法，即循环伏安(CVS)分析仪，可以用来实现对电镀中有机物和污染物的分析。槽液中的添加物最终会影响线路板金属涂层的延展性、拉力，甚至最终的可焊性。用于电镀添加剂(光剂，整平剂)分析测试，主要用于电镀浴分析，广泛应用于对于电镀控制要求比较高的线路板、半导体、精密电镀、太阳能电镀等。对有机添加物的常态化检查是保证产品质量的重要手段。

电解池是发生电镀的场所,它能够将电能转化为化学能的一个装置，由外加电源，电解质溶液，参与工作的电极构成：

其阴极：得电子，还原反应，该电极与电源负极相连接；

阳极：失电子，发生氧化反应，与电源正极相连；

电解池中，电流由阳极流向阴极。

若电极反应为O+e-→R，反应前溶液中只含有反应粒子O，且O、R在溶液均可溶，控制扫描起始电势从比体系标准平衡电势(φ平)正得多的起始电势(φi)处开始势作正向电扫描，电流响应曲线则如附图1所示。

当电极电势逐渐负移到(φ平)附近时，O开始在电极上还原，并有i法拉第通过。由于电势越来越负，电极表面反应物O的浓度逐渐下降，因此向电极表面的流量和电流就增加。当O的表面浓度下降到近于零，电流也增加到最大值I_pc，然后电流逐渐下降。当电势达到(φr)后，又改为反向扫描。

随着电极电势逐渐变正，电极附近可氧化的R粒子的浓度较大，在电势接近并通过(φ平)时，表面上的电化学平衡应当向着越来越有利于生成R的方向发展。于是R开始被氧化，并且电流增大到峰值氧化电流I_pa，随后又由于R的显著消耗而引起电流衰降。整个曲线称为“循环伏安曲线”。

循环伏安分析仪是制造行业电镀溶液添加剂分析重要仪器设备，能够为环保绿色制造提供有力的技术支撑，市场应用广泛，但目前行业内对其计量性能没有专门检定规程、校准规范等标准，对其量值溯源的准确定不能有效保障，无法评价其计量特性，所以，有必要研究循环伏安分析仪的计量校准。

发明内容

本发明的目的是提供一种循环伏安分析仪的校准系统及其校准方法，以为了解决循环伏安分析仪量值无法溯源的问题。

为解决上述问题，本发明提供了一种循环伏安分析仪的校准系统。

一种循环伏安分析仪的校准系统，包括计算机、单片机、电压测量模块、第一阻抗模块、第二阻抗模块、多路转换开关模块、接线端1、接线端2及接线端3。其中：

接线端1用以连接被校循环伏安分析仪的工作电极，且与第一阻抗模块的第一端口相连接；

接线端2用以连接被校循环伏安分析仪的参比电极，且与第一阻抗模块的第二端口和第二阻抗模块的第一端口相连接；

接线端3用以连接被校循环伏安分析仪的参比电极，且与第二阻抗模块的第二端口相连接；

多路转换开关模块与电压测量模块、单片机、接线端1、接线端2及接线端3相连接，所述多路开关模块在单片机的控制下，能够使电压测量模块检测第一阻抗模块或第二阻抗模块两端的电势差；

计算机与单片机相连接，单片机在计算机的控制下实现对多路开关模块的控制；