[发明专利]一种新型自容In-cell显示屏触控结构在审

专利信息
申请号: 201811589652.8 申请日: 2018-12-25
公开(公告)号: CN109491547A 公开(公告)日: 2019-03-19
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;G06F3/044
代理公司: 福州市博深专利事务所(普通合伙) 35214 代理人: 林志峥
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 正常像素 假像素区域 显示屏 信号干扰源 触控传感器 触控结构 信号干扰 电容 屏蔽 外设 四边 外围 外围驱动电路 触控区域 区域对应 均一性 信号线 触控 制程 配置 优化
【说明书】:

发明涉及显示屏触控领域,特别涉及一种新型自容In‑cell显示屏触控结构,包括假像素区域和正常像素区域,所述正常像素区域对应In‑cell显示屏触控区域设置,所述假像素区域设置在所述正常像素区域的外围且位于正常像素区域与外设的信号干扰源之间,所述假像素区域被配置为屏蔽所述信号干扰源对正常像素区域的信号干扰。在沿用现有In‑cell制程的基础下,通过优化假像素区域,使设置在外围的假像素区域能够屏蔽外设的信号干扰源对正常像素区域的信号干扰,降低外围驱动电路和信号线对四边触控传感器电容值的影响,从而提升面板内触控传感器电容值的均一性。

技术领域

本发明涉及显示屏触控领域,特别涉及一种新型自容In-cell显示屏触控结构。

背景技术

在现有的LCD显示技术上,集成触控功能已被广泛应用于中小尺寸面板。纯In-cell触控显示面板采用复用公共电极层做公共电极或触控传感器的自容显示技术,该架构下的触控传感器电极因距离IC芯片间距以及面板排布位置差异,会受到信号线、周边传感器以及触控走线寄生电容或阻值等因素的影响。在此架构下,无触控动作下各传感器电容值存在差异,如果差异过大,驱动IC芯片将无法补偿其面内差异,从而影响触控性能。因此,特别有必要提供一种新型自容In-cell显示屏触控结构,能够减少外围驱动电路和信号线对触控传感器电容值的影响。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是:提供一种新型自容In-cell显示屏触控结构。减少外围驱动电路和信号线对触控传感器电容值的影响,从而获得更加均一的面板内电容初始值。

为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:一种新型自容In-cell显示屏触控结构,包括假像素区域和正常像素区域,所述正常像素区域对应In-cell显示屏触控区域设置,所述假像素区域设置在所述正常像素区域的外围且位于正常像素区域与外设的信号干扰源之间,所述假像素区域被配置为屏蔽所述信号干扰源对正常像素区域的信号干扰。

本发明的有益效果在于:在沿用现有In-cell制程的基础下,通过优化假像素区域,使设置在外围的假像素区域能够屏蔽外设的信号干扰源对正常像素区域的信号干扰,降低外围驱动电路和信号线对四边触控传感器电容值的影响,从而提升面板内触控传感器电容值的均一性。

附图说明

图1为根据本发明的一种新型自容In-cell显示屏触控结构的显示屏触控区域示意图;

图2为根据本发明的一种新型自容In-cell显示屏触控结构的实施例二的显示屏触控区域示意图;

图3为根据本发明的一种新型自容In-cell显示屏触控结构的实施例三的显示屏触控区域示意图;

标号说明:

1、假像素区域;2、正常像素区域;3、公共电极走线。

具体实施方式

为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图予以说明。

本发明最关键的构思在于:将显示区域最外围的假像素区域设置成能够屏蔽外围信号干扰源的屏蔽圈,降低外围驱动电路或信号线对四边触控传感器的影响。

请参照图1-3,本发明提供的技术方案:

一种新型自容In-cell显示屏触控结构,包括假像素区域和正常像素区域,所述正常像素区域对应In-cell显示屏触控区域设置,所述假像素区域设置在所述正常像素区域的外围且位于正常像素区域与外设的信号干扰源之间,所述假像素区域被配置为屏蔽所述信号干扰源对正常像素区域的信号干扰。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建华佳彩有限公司,未经福建华佳彩有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811589652.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top