[发明专利]一种高效坩埚及其制备方法有效
| 申请号： | 201811590557.X | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN111349967B | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 范波波;梁万松;赵卫;陈袆;蔡保山 | 申请（专利权）人： | 比亚迪股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B28/06 | 分类号： | C30B28/06;C30B29/06;B05D7/22 |
| 代理公司： | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 | 代理人： | 耿超 |
| 地址： | 518118 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高效 坩埚 及其 制备 方法 | ||
1.一种高效坩埚，其特征在于，包括坩埚本体和设置于所述坩埚本体底部内表面之上的第一氮化硅涂层和设置在所述坩埚本体侧壁内表面的第二氮化硅涂层；所述第一氮化硅涂层中的氮化硅颗粒由第一氮化硅颗粒构成，所述第二氮化硅涂层中的氮化硅颗粒由第二氮化硅颗粒构成；其中，2μm≤所述第一氮化硅颗粒的中位粒径D50≤3.5μm，1μm≤所述第二氮化硅颗粒的中位粒径D50＜2μm；
第一氮化硅涂层中的氮化硅颗粒的中位粒径D50较大，第二氮化硅涂层中的氮化硅颗粒的中位粒径D50较小。
2.一种高效坩埚的制备方法，该方法采用喷枪在坩埚本体内表面喷涂氮化硅浆料，其特征在于，对所述坩埚本体底部内表面喷涂第一氮化硅浆料，对所述坩埚本体侧壁内表面喷涂第二氮化硅浆料；所述第一氮化硅浆料中的氮化硅颗粒由第一氮化硅颗粒组成，所述第二氮化硅浆料中的氮化硅颗粒由第二氮化硅颗粒组成，其中，2μm≤所述第一氮化硅颗粒的中位粒径D50≤3.5μm，1μm≤所述第二氮化硅颗粒的中位粒径D50＜2μm；第一氮化硅涂层中的氮化硅颗粒的中位粒径D50较大，第二氮化硅涂层中的氮化硅颗粒的中位粒径D50较小。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，喷涂所述第一氮化硅浆料时，所述第一氮化硅浆料的流量为100-150ml/min；喷涂所述第二氮化硅浆料时，所述第二氮化硅浆料的流量为120-160ml/min。
4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，喷涂所述第一氮化硅浆料时，喷嘴的喷幅宽度为40-90mm，喷涂长度为200-280mm；喷涂所述第二氮化硅浆料时，喷嘴的喷幅宽度为30-80mm，喷涂长度为200-280mm。
5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一氮化硅浆料的喷涂温度为50-150℃，所述第二氮化硅浆料的喷涂温度为50-150℃。
6.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一氮化硅浆料的喷涂压力为0.2-0.4Mpa，所述第二氮化硅浆料的喷涂压力为0.05-0.25Mpa。
7.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述第一氮化硅浆料还包括第一硅溶胶和第一去离子水，以所述第一氮化硅浆料的总质量为基准，所述第一氮化硅颗粒平均占比25wt.％-35wt.％，所述第一硅溶胶平均占比11wt.％-15wt.％，所述第一去离子水平均占比55wt.％-60wt.％；所述第二氮化硅浆料还包括第二硅溶胶和第二去离子水，以所述第二氮化硅浆料的总质量为基准，所述第二氮化硅颗粒平均占比20-30wt.％，所述第二硅溶胶平均占比14wt.％-20wt.％，所述第二去离子水平均占比55wt.％-60wt.％。
8.一种高效坩埚，其特征在于，所述高效坩埚由权利要求2-7任一项所述的制备方法制备得到。
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