[发明专利]激光共振驱动弹丸注入系统在审
申请号: | 201811591502.0 | 申请日: | 2018-12-25 |
公开(公告)号: | CN111367068A | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 孙平;郑典麟;张凯;冯雷;董春风 | 申请(专利权)人: | 核工业西南物理研究院 |
主分类号: | G02B17/08 | 分类号: | G02B17/08 |
代理公司: | 核工业专利中心 11007 | 代理人: | 高安娜 |
地址: | 610041 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 共振 驱动 弹丸 注入 系统 | ||
本发明属于核聚变控制技术领域,具体涉及激光共振驱动弹丸注入系统,激光共振驱动弹丸注入系统,包括真空室、聚焦透镜和设置在真空室内的激光共振驱动弹丸注入系统,激光共振驱动弹丸注入系统包括聚焦透镜1、拋物镜、平面镜和弹丸;聚焦透镜安装在真空室外,用于会聚激光束,使激光束的焦点落到弹丸上;采用本系统激光能量利用效率高、弹丸速度快、弹丸速度大小可调、注入杂质的纯度高。
技术领域
本发明属于核聚变控制技术领域,具体涉及激光共振驱动弹丸注入系统。
背景技术
在受控核聚变研究中,向等离子体中注入杂质可以诱发各种各样的等离子体现象,根据这些现象可以开展多方面的等离子体行为研究。
比如,杂质输运、离子输运、热输运、破裂缓减、ELMy缓减、加料、器壁处理等方面的研究。
当前向等离子体中注入杂质的方法较多,主要有激光吹气、喷入杂质气体、高压气体驱动的杂质弹丸等。
这些方式各有优势。前两种方式都可以向等离子体中注入多种气态杂质脉冲,而第三种方式可以注入固态杂质,这种方式由于使用了高压气体驱动,在注入杂质弹丸的同时难免有驱动气体进入等离子体,也就是说注入杂质的纯度不高。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术存在的上述缺陷,提供本发明提供一种激光共振驱动弹丸注入系统,即激光共振驱动,可以克服高压气体驱动注入杂质纯度不高的缺点。本发明采用激光共振驱动弹丸的方式,具有激光能量利用效率高、弹丸速度快、速度大小可调、注入杂质的纯度高等特点。。
本发明的技术方案如下:
激光共振驱动弹丸注入系统,包括真空室、聚焦透镜和设置在真空室内的激光共振驱动弹丸注入系统,激光共振驱动弹丸注入系统包括聚焦透镜1、拋物镜、平面镜和弹丸;聚焦透镜安装在真空室外,用于会聚激光束,使激光束的焦点落到弹丸上;
拋物镜的中央有通光孔,该孔是入射光的通道;
平面镜的中央有发射孔,该孔作为放置弹丸的支撑和发射弹丸的枪管;
聚焦透镜、拋物镜、平面镜的光轴在同一条直线上;聚焦透镜和拋物镜的焦点都位于平面镜发射孔与反射面齐平的位置;弹丸放置在平面镜的发射孔中,其端头与平面镜的反射面齐平。
一种激光共振驱动弹丸注入系统,真空室包括激光窗口、观察窗口、腔体盖板、盖板提手、真空腔体、装置接口法兰、抽气接口;
真空室为四方形中空结构,上部设置有腔体盖板和盖板提手,左侧开设有激光窗口,右侧开设有装置接口法兰,下部开设有抽气接口。
一种激光共振驱动弹丸注入系统,在真空室内部靠激光口和观察窗口一侧设置有激光共振腔,激光共振腔安装在真空室中,由一个拋物镜、一个平面镜和弹丸构成,激光在这三者之间反复反射,起到反复向弹丸提供动能的作用,达到驱动弹丸的目的。
一种激光共振驱动弹丸注入系统,在真空室内部还设置有XY向位移台,在XY向位移台上设置有Z向位移台,在Z向位移台上安放抛物镜和角向镜架,角向镜架用于拋物镜的水平旋转和俯仰调节。
一种激光共振驱动弹丸注入系统,激光束经过聚焦透镜会聚后成为会聚光束,会聚光束穿过拋物镜的通光孔后,其焦点落在弹丸的端面位置;
一种激光共振驱动弹丸注入系统,激光与弹丸相互作用,其能量主要分为两部分,少部分被弹丸吸收,大部分被弹丸反射。
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