[发明专利]像素界定结构及其制备方法、显示基板及显示装置

权利要求书

1.一种像素界定结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

获取衬底基板，所述衬底基板的一侧上附有电极层；

在所述电极层上加入有机绝缘材料以形成有机膜层，所述有机膜层包括若干像素区和若干非像素区，之后在所述像素区加入蚀刻液以在所述像素区上形成像素坑，对应在所述非像素区上形成像素界定层前体；

先对所述像素界定层前体进行预热，以使所述蚀刻液挥发，再对所述像素界定层前体进行烘烤，以在所述非像素区上形成像素界定层。

2.根据权利要求1所述的像素界定结构的制备方法，其特征在于，所述蚀刻液选自四氢呋喃和甲苯中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的像素界定结构的制备方法，其特征在于，所述蚀刻液为四氢呋喃和甲苯的混合液，所述四氢呋喃和所述甲苯的质量比为4:1-2:3。

4.根据权利要求1所述的像素界定结构的制备方法，其特征在于，在所述像素区加入蚀刻液的步骤包括：在所述像素区滴加若干相邻的蚀刻液滴。

5.根据权利要求1所述的像素界定结构的制备方法，其特征在于，在所述像素区加入蚀刻液的步骤之后且在所述非像素区上形成像素界定层前体之前，还包括对所述衬底基板进行预热的步骤。

6.根据权利要求5所述的像素界定结构的制备方法，其特征在于，在对所述衬底基板进行预热的步骤包括：对所述衬底基板进行第一次预热，然后在所述像素区再次加入蚀刻液，再对所述衬底基板进行第二次预热。

7.根据权利要求1-6任一项所述的像素界定结构的制备方法，其特征在于，所述预热是通过对所述衬底基板进行加热，由所述衬底基板将热量传递至所述像素界定层前体。

8.一种像素界定结构，其特征在于，所述像素界定结构采用权利要求1-7任一项的制备方法制得。

9.一种显示基板，其特征在于，包括权利要求8所述的像素界定结构。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示基板。