[发明专利]一种高纯正硅酸乙酯的生产方法及生产系统

说明书

本发明提供了一种高纯正硅酸乙酯的生产方法，包括：S1)将正硅酸乙酯粗品经水分吸附剂吸附后，得到除去水分的正硅酸乙酯；S2)将所述吸附水分的正硅酸乙酯经金属离子改性材料处理后，得到处理后的正硅酸乙酯；S3)将所述处理后的正硅酸乙酯进行蒸馏，得到高纯正硅酸乙酯。与现有技术相比，本发明将除去水分的正硅酸乙酯经金属离子改性材料处理后，将其中的含磷和/或含硼的轻组分物质转化为重组分化合物，再经蒸馏冷凝后即可得到高纯正硅酸乙酯，生产方法易于操作，自动化程度高，可进行连续生产，工作效率高且得到的产品质量也较高，同时仅需蒸馏也降低了能耗，节能降本。

技术领域

本发明属于半导体技术领域，尤其涉及一种高纯正硅酸乙酯的生产方法及生产系统。

背景技术

半导体工艺形成氧化层的方法主要有热氧化(针对能形成自身稳定氧化层的半导体材料)、低压化学气相淀积(LPCVD)、等离子增强化学气相淀积(PECVD)和常压化学气相淀积(APCVD)等，其中由于APCVD要求的气流量大，且工艺产生颗粒相对较多，目前大多数半导体工艺已很少使用。

正硅酸乙酯(TEOS)用于LPCVD时，TEOS从液态蒸发成气态，在700～750℃、300mTOR压力下分解在硅片表面淀积生成二氧化硅薄膜，二氧化硅薄膜沉积的速率可以达到50à/min，薄膜的厚度均匀性小于3％，这些优良的工艺特性和其在使用安全性方面的显著特点已逐步成为沉积二氧化硅薄膜的主流工艺。

应用正硅酸乙酯(TEOS)LPCVD技术实现二氧化硅在SiC晶片表面的淀积，可在一定程度上弥补SiC氧化层过薄和PECVD二氧化硅层过于疏松的弊端。采用TEOS LPCVD技术与高温氧化技术的合理运用，既保证了氧化层介质的致密性和与SiC晶片的粘附能力，又提高了器件的电性能和成品率，同时避免了为获得一定厚度氧化层长时间高温氧化的不足。采用此技术后，SiC芯片的直流成品率得到提高，微波功率器件的对比流片结果显示微波性能也得到了明显的提升，功率增益比原工艺提高了1.5dB左右，功率附加效率提升了近10％。

公开号为CN201310747619.4的中国专利公开了一种电子级正硅酸乙酯的制备方法，该方法先用络合剂络合原料中大部分金属杂质后，用0.1微米的微孔过滤器过滤，然后依次通过阳离子交换塔、石英板式蒸馏塔、亚沸蒸馏器，严格控制温度，去除微量金属杂质、乙醇及其他有机杂质和水分，但采用络合剂易引用新的金属离子杂质，且通过亚沸蒸馏的方式加工难度大、能耗高、效率低，从而使得产品的生产成本增加，且不能连续生产。

发明内容

有鉴于此，本发明要解决的技术问题在于提供一种可连续生产且成本较低的高纯正硅酸乙酯的生产方法及生产系统。

本发明提供了一种高纯正硅酸乙酯的生产方法，包括：

S1)将正硅酸乙酯粗品经水分吸附剂吸附后，得到除去水分的正硅酸乙酯；

S2)将所述除去水分的正硅酸乙酯经金属离子改性材料处理后，得到处理后的正硅酸乙酯；

S3)将所述处理后的正硅酸乙酯进行蒸馏，得到高纯正硅酸乙酯。

优选的，所述水分吸附剂选自3A分子筛。

优选的，所述金属离子改性材料选为负载贵金属改性的硅铝凝胶。

优选的，所述S3)具体为：

将所述处理后的正硅酸乙酯进行第一次蒸馏，冷凝后，得到一次蒸馏后的正硅酸乙酯；

将所述一次蒸馏后的正硅酸乙酯进行第二次蒸馏，冷凝后，得到二次蒸馏后的正硅酸乙酯；

将所述二次蒸馏后的正硅酸乙酯进行第三次蒸馏，冷凝后，得到高纯正硅酸乙酯。

优选的，蒸馏后，冷凝，经静电吸附处理后，得到高纯正硅酸乙酯。