[发明专利]一种电子组装用水基助焊剂及其制备方法在审
申请号: | 201811594450.2 | 申请日: | 2018-12-25 |
公开(公告)号: | CN109530970A | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 甘贵生;田谧哲;刘歆;蒋刘杰;夏大权;曹华东;徐安莲;吴应雪 | 申请(专利权)人: | 重庆理工大学 |
主分类号: | B23K35/36 | 分类号: | B23K35/36;B23K35/362;B23K35/40 |
代理公司: | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人: | 李晓兵 |
地址: | 400054 重*** | 国省代码: | 重庆;50 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 电子组装 助焊剂 表面活性剂 抗氧化剂 成膜剂 缓蚀剂 活性剂 制备 烷基酚聚氧乙烯醚 焊点 二羟甲基丁酸 溶剂去离子水 羟丙基壳聚糖 电路板 刺激性气味 邻苯二甲酸 质量百分比 松香 对苯二酚 二乙醇胺 固体残余 人员身体 三乙醇胺 炸锡现象 固含量 后表面 葵二酸 磷酸酯 苹果酸 水杨酸 无卤素 质量比 涂敷 腐蚀 损害 健康 | ||
本发明提供了一种电子组装用水基助焊剂及其制备方法,各组分及质量百分比:活性剂2.5~5.5%;表面活性剂1%~3.5%;成膜剂0~0.3%;抗氧化剂0.01~0.3%;缓蚀剂0.01~0.4%,余下为溶剂去离子水;活性剂为水杨酸,邻苯二甲酸,二羟甲基丁酸,葵二酸,DL‑苹果酸的至少两种以各自大于0%的质量比混合,混合时温度控制在30~60℃;表面活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚系列或TX‑10磷酸酯中的任一种;成膜剂为三乙醇胺或二乙醇胺的一种;抗氧化剂为对苯二酚;缓蚀剂为羟丙基壳聚糖。本发明电子组装用水基助焊剂固体残余量低,无卤素,无松香,满足电子组装多种涂敷方式,固含量少,焊后残余微小,减少了对电路板的腐蚀;焊后表面干净,焊点圆润光亮,无刺激性气味,无炸锡现象,不会损害操作人员身体健康。
技术领域
本发明属于电路焊接用助焊剂制备的化工领域,涉及到一种电子组装用水基助焊剂及其制备方法。
背景技术
助焊剂是焊接工艺中不可缺少的一环,它的主要功能就是去除金属表面的氧化物。除此之外,还可以保护焊接区,降低液态钎料的表面张力,改善液态钎料的漫流性,增强填缝能力,改善焊接区热量的传递与平衡等。
目前,市场上部分助焊剂的活性成分中含有卤素,含有卤素的助焊剂可以快速去除焊盘的氧化膜,加强焊料的润湿性,但是卤素的添加会使焊点的可靠性能减弱,表面绝缘电阻降低,对生态环境也有不利影响,越来越多的企业开始选择无卤素助焊剂来面对严格的环境监管,无卤素是焊剂的发展趋势。低固含量助焊剂是近年来受市场欢迎研制开发的新型免清洗助焊剂,一般固体含量≤5%,它避免了臭氧层损耗物质(ODS)类溶剂对生态环境的破坏,具有焊后离子残渣少,不含卤素,绝缘电阻高,不需清洗,不影响焊接后PCB板外观等优点。
目前,许多助焊剂都用乙醇,异丙醇等醇类作为溶剂载体,其成本高,运输不方便且易燃易爆,容易造成安全隐患。而醇类的挥发会形成光化学烟雾,对人类的身体与生存环境产生危害。为此,用去离子水代替醇类成为焊剂的发展趋势。用去离子水作为溶剂,可以降低成本,但是如果助焊剂粘度不够,不足以抑制溶剂挥发速度,会引起炸锡,飞溅现象,可能会烫伤工作人员。此外,许多助焊剂用松香作为成膜剂以及载体,有的虽然可以达到免清洗条件,但是松香的残留也有轻微的腐蚀性,还会引起吸潮,对于电路板的机械与电气性能存在不良影响。中国专利(CN 104551452 B)的一种水基助焊剂,该助焊剂有不含卤素,固含量低,环保等优点。但是其水含量只有1~30%,含有其他有机物溶剂,其水含量并不占主要部分,必然提高了助焊剂的成本,同时会产生挥发性气体。
发明内容
本发明针对现有技术的上述不足,本发明的目的在于提供一种电子组装用水基助焊剂及制备方法;解决现有助焊剂焊后固体残余量高,易飞溅,污染环境等缺点。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种电子组装用水基助焊剂,其特征在于:各组分及质量百分比如下:
活性剂2.5~5.5%;表面活性剂1%~3.5%;
成膜剂0~0.3%;抗氧化剂0.01~0.3%;
缓蚀剂0.01~0.4%,余下为溶剂,全部组分总质量百分比为100%;
所述的活性剂为水杨酸,邻苯二甲酸,二羟甲基丁酸,葵二酸,DL-苹果酸
的至少两种以各自大于0%的质量比混合,混合时温度控制在30~60℃;
所述的表面活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚系列或TX-10磷酸酯中的任一种;
所述的成膜剂为三乙醇胺或二乙醇胺的一种;
所述的抗氧化剂为对苯二酚;
所述的缓蚀剂为羟丙基壳聚糖;
所述的溶剂为去离子水。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆理工大学,未经重庆理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811594450.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。