[发明专利]标尺及其制造方法有效
申请号: | 201811598095.6 | 申请日: | 2018-12-26 |
公开(公告)号: | CN110030894B | 公开(公告)日: | 2022-10-28 |
发明(设计)人: | 青木敏彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社三丰 |
主分类号: | G01B3/02 | 分类号: | G01B3/02;G01B11/00;G02B5/18 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 贺紫秋 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 标尺 及其 制造 方法 | ||
一种标尺,包括:基板;形成在基板上的第一金属层;形成在第一金属层上的第二金属层;以及刻度光栅,其形成在第二金属层上并具有预定间隔的多个金属光栅,其中,所述第一金属层由第一金属制成,其中,所述第二金属层由第二金属制成,其中,所述第一金属与基板的粘附性高于第二金属与基板的粘附性,并且其中所述第二金属相对于所用光的波长的反射率高于第一金属层相对于所用光的波长的反射率。
技术领域
本文描述的实施例的某个方面涉及一种标尺及其制造方法。
背景技术
具有用于反射入射光的刻度光栅的标尺被公开为反射型光电线性标尺(例如参见日本专利申请公开第2005-308718号)。标尺具有相位光栅结构,其使用光栅的上表面和下表面之间的高度差。刻度光栅具有凹凸形状,其相对于基部具有预定的高度差。因此,当通过擦拭等去除附着在标尺上的污染物时,刻度光栅可能会被损坏。在擦拭期间污染物可能留在刻度光栅之间的凹部中。在这种情况下,测量精度可能会降低。当刻度光栅具有微尺寸时,测量精度可能显著降低。因此,公开了一种技术,其中保护层覆盖刻度光栅的凹凸形状(例如,参见日本专利申请公开第2006-178312号)。
发明内容
然而,当提供保护层时,由于在保护层的表面与接地层的金属之间的界面处的反射或吸收,在数学上显而易见的是衍射光弱于未提供保护层的情况。因此,可以想到选择高反射率金属作为构成反射型相位光栅的材料。然而,当考虑与基板的粘附性时,高反射率金属的类型受到限制。
在本发明的一方面,目的是提供一种能够实现高衍射效率并且与基板具有高粘附性的标尺以及该标尺的制造方法。
根据本发明的一方面,提供了一种标尺,包括:基板;形成在基板上的第一金属层;形成在第一金属层上的第二金属层;以及刻度光栅,其形成在第二金属层上并具有预定间隔的多个金属光栅,其中,所述第一金属层由第一金属制成,其中,所述第二金属层由第二金属制成,其中,所述第一金属与基板的粘附性高于第二金属与基板的粘附性,并且其中,所述第二金属相对于所用光的波长的反射率高于第一金属层相对于所用光的波长的反射率。
根据本发明的另一方面,提供了一种标尺的制造方法,包括:在基板上依次形成第一金属层、第二金属层和金属刻度光栅层;和通过蚀刻金属刻度光栅层,形成具有预定间隔的多个金属光栅的刻度光栅,其中,所述第一金属层由第一金属制成,其中,所述第二金属层由第二金属制成,其中,所述第一金属与基板的粘附性高于第二金属与基板的粘附性,并且其中,所述第二金属相对于所用光的波长的反射率高于第一金属层相对于所用光的波长的反射率。
附图说明
图1A示出了第一实施例的标尺的平面图;
图1B示出了沿图1A中的线A-A截取的横截面图;以及
图2A至图2E示出了标尺的制造方法。
具体实施方式
以下是参考附图对实施例的描述。
(第一实施例)图1A示出了根据第一实施例的标尺100的平面图。图1B示出了沿图1A中的线A-A截取的横截面图。如图1A和图1B所示,标尺100具有这样的结构,其中用作第一金属层的粘附层20形成在基板10上,用作第二金属层的高反射层30形成在粘附层20上,具有预定间隔的金属光栅的刻度光栅40形成在高反射层30上,且保护层50覆盖刻度光栅40和高反射层30的暴露部分。
基板10不受限制。基板10例如由除金属之外的材料制成。例如,材料是金属氧化物、有机材料、玻璃等。玻璃可以是低膨胀系数材料,比如石英玻璃(合成熔融石英)。
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