[发明专利]一种应用于半导体领域的涂层的洁净度的检测方法在审
| 申请号： | 201811598346.0 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN109632926A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 郭昊;刘红霞;郁忠杰;李加;徐俊阳;王嘉雨 | 申请（专利权）人： | 沈阳富创精密设备有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62;G01N1/34;G01N1/38 |
| 代理公司： | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 俞鲁江 |
| 地址： | 110000 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 检测 洁净度 半导体领域 水滴 稀酸 直尺 电感耦合等离子体质谱仪 检测结果 零件涂层 制备应用 可信度 外标法 称重 稀释 去除 应用 清洗 | ||
1.一种应用于半导体领域的涂层的洁净度的检测方法，其特征在于，
主要包括以下几个步骤：
1)将1-4ml稀酸滴到零件涂层区域，数分钟后收集稀酸称重并检测；
2)清洗吹干后，取1-4ml水滴在与酸相同的区域，用直尺做标准，拍下照片，用软件算出面积；
3)将稀释后的样品用外标法进行检测，该方法获得的检测结果去除干扰较彻底。
2.如权利要求1所述的涂层的洁净度的检测方法，其特征在于，所述步骤1)的稀酸采用电子级硝酸或Tamapure硝酸，微量移液枪采用全部塑料材料的高精度移液枪。
3.如权利要求1所述的涂层的洁净度的检测方法，其特征在于，所述步骤2)需要用喷淋水洗7min后氮气吹干后再滴入1-4ml水；直尺要和水所形成的区域同时被照相机所记录；通过ImageJ软件算出1-4ml水所形成面积。
4.如权利要求1所述的涂层的洁净度的检测方法，其特征在于，所述步骤3)PE的ICPMS，氩气纯度≥99.996％，气压85psi-100psi氨气纯度>99.999％，氨气压力10-20psi。
5.如权利要求1所述的涂层的洁净度的检测方法，其特征在于，试剂瓶采用PFA材质的试剂瓶。
6.如权利要求1所述的涂层的洁净度的检测方法，其特征在于，ICPMS所使用的是去干扰能力强的DRC反应模式。
7.如权利要求1所述的涂层的洁净度的检测方法，其特征在于，
该检测方法可应用在氧化钇、氧化铝涂层上。
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