[发明专利]一种带有表面配体的CdSe/CdS核壳结构光催化剂及其制备方法和应用在审
申请号: | 201811598674.0 | 申请日: | 2018-12-26 |
公开(公告)号: | CN109603855A | 公开(公告)日: | 2019-04-12 |
发明(设计)人: | 常立民;薛向欣;赵翠梅;段小月;王海瑞;聂平 | 申请(专利权)人: | 吉林师范大学 |
主分类号: | B01J27/04 | 分类号: | B01J27/04 |
代理公司: | 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 | 代理人: | 李泉宏 |
地址: | 136000 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面配体 光催化剂 核壳结构 制备方法和应用 配体 粒子 聚丙烯酸聚合物 空穴 功能材料技术 纳米复合材料 光催化活性 光催化性能 核壳量子点 表面生长 复合纳米 基底制备 空穴复合 配体修饰 不规则 量子点 纳米级 石墨烯 团聚体 粒径 油胺 还原 离子 团聚 并用 | ||
1.一种带有表面配体的CdSe/CdS核壳结构光催化剂,其特征在于,该光催化剂由直径3.9nm的CdSe颗粒为核,表面生长六层,形成粒径平均大小为10nm的CdSe/CdS核壳量子点,CdSe/CdS核壳量子点表面通过配体修饰带有表面配体,所述配体为油胺、S2-离子或聚丙烯酸聚合物。
2.如权利要求1所述的种带有表面配体的CdSe/CdS核壳结构光催化剂的制备方法,其具体制备步骤如下:
一、制备油胺修饰的CdSe/CdS核壳量子点,具体步骤如下:
1)、将1.2-1.7g十八胺和3-6mL十八烯加入50mL反应容器中;
2)、加入分散在正己烷中的CdSe纳米颗粒,颗粒直径3.9nm,加入量为2.9×10-7mol,将反应体系加热至90~100℃,保持30~40min,然后将容器抽真空30~40min,以去除正己烷和其他的低蒸汽压杂质;
3)、在氩气流下将反应体系加热至200~260℃,在此条件下进行壳生长,向反应体系中分六次交替加入镉溶液和硫溶液;氧化镉的油酸溶液,硫溶液为单质硫的十八烯溶液;镉溶液和硫溶液的浓度均为0.15~0.3mol/L;镉溶液和硫溶液的加入时间间隔为5~15min;
4)、最后一次滴加完成后,溶液在250~280℃下继续保持30~40min,最后冷却至室温,在CdSe核表面生长出6层CdS壳;为了纯化,通过连续甲醇萃取除去未反应的化合物和副产物,直到甲醇相澄清;除去溶剂后得到油胺修饰的CdSe/CdS核壳量子点,获得分散在溶剂中;
二、制备聚丙烯酸聚合物修饰的CdSe/CdS核壳量子点,具体步骤如下:
1)、将0.3~0.6g聚丙烯酸聚合物溶解在3mL二甘醇中,然后在50~60℃下抽真空30~40min,得到溶液A;
2)、注射3~4mL浓度为1.5×10-5mol/L油胺修饰的CdSe/CdS核壳量子点氯仿分散液于溶液A中,并将溶液加热至160~190℃;注射后,溶液立即变浑浊,然后逐渐变澄清时,表明配体交换已经完成;
3)溶液冷却至室温后,加入丙酮使量子点沉淀,将量子点洗涤3~5次,最后分散在水中;
三、制备S2-修饰的CdSe/CdS核壳量子点,具体步骤如下:
1)将0.5~2mL浓度为2mg/mL的油胺修饰的CdSe/CdS核壳量子点甲苯分散液,与0.5~2mL浓度为5mg/mL的K2S的甲酰胺溶液混合;
2)搅拌10~15min,使油胺修饰的CdSe/CdS核壳量子点从甲苯相转移到甲酰胺相中,相转移过程中完成S2-和油胺的配体交换;相转移可以通过甲苯和甲酰胺相的颜色变化来容易地监控,甲苯相由红色变成无色,甲酰胺相同时无色到红色;
3)分离出甲酰胺相,然后用甲苯洗涤三次,然后将洗涤的甲酰胺相通过0.2μm PTFE过滤器过滤,并加入1~1.5mL乙腈沉淀出S2-修饰的CdSe/CdS核壳量子点;最后,将获得的沉淀物重新分散在甲酰胺中。
3.如权利要求1所述的带有表面配体的CdSe/CdS核壳结构光催化剂制备还原石墨烯的应用,具体步骤如下:
1)在N,N-二甲基甲酰胺中,通过超声波作用下从天然石墨粉中剥离出氧化石墨烯,除去N,N-二甲基甲酰胺,得到氧化石墨烯;
2)将20mL浓度为3×10-6mol/L的油胺修饰的CdSe/CdS核壳量子点加入到20mL浓度为0.5mg/mL的氧化石墨烯的水溶液中,混合超声处理1~1.5h;
3)加入10mL乙醇,通过在8500~10000rpm下离心10min将沉淀物与溶剂分离,并在在60~80℃干燥后;得到油胺修饰的CdSe/CdS核壳量子点-氧化石墨烯复合物;
4)在可见光的照射0.5~4h可将氧化石墨烯还原为还原石墨烯;
或者,采用如下步骤:
1)制备PDDA修饰的氧化石墨烯;将20mL浓度为10mg/mL的PDDA水溶液和20mL浓度为0.5mg/mL的氧化石墨烯水溶液搅拌混合,在室温下搅拌反应2h后,10000-15000rpm转速离心三次,除去过量的PDDA,将其分散在20mL水溶液中;
2)将20mL浓度为3×10-6mol/L的S2-修饰的CdSe/CdS核壳量子点甲酰胺分散液或聚丙烯酸聚合物修饰的CdSe/CdS核壳量子点水溶液,与PDDA修饰的氧化石墨烯水溶液混合并搅拌1~2小时,
3)将混合溶液在8500-10000rpm下离心分离10~20min,烘箱中60~80℃干燥10~12小时得到S2-修饰的CdSe/CdS核壳量子点-氧化石墨烯复合物或聚丙烯酸聚合物修饰的CdSe/CdS核壳量子点-氧化石墨烯复合物;
4)将S2-修饰的CdSe/CdS核壳量子点-氧化石墨烯复合物或聚丙烯酸聚合物修饰的CdSe/CdS核壳量子点-氧化石墨烯复合物在可见光的照射0.5-4小时将氧化石墨烯还原为还原石墨烯。
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