[发明专利]一种包含不同透光性的新型光学掩膜版

权利要求书

1.一种包含不同透光性的新型光学掩膜版，其特征在于，其制备方法包括以下步骤：

a、选取在紫外光波段透过率较高的光学玻璃作为光学掩膜版的基板；

b、在玻璃基板表面镀上一层铬金属膜层；

c、在镀有铬膜的玻璃基板上均匀涂覆一层光刻胶；

d、通过电子束曝光设定图形区域内的光刻胶，使之发生反应，接着通过显影液显影，最终形成带有光刻胶图案的玻璃基板；

e、浸泡刻蚀液，将未有光刻胶覆盖区域的铬膜去除，其余部分保留；

f、去除剩余光刻胶，形成带有全透光和全阻光设计图形的玻璃基板；

g、在玻璃基板上继续镀上一层部分透光薄膜；

h、在镀有部分透光薄膜的玻璃基板上均匀涂覆一层光刻胶；

i、通过电子束曝光设定图形区域内的光刻胶，使之发生反应，然后通过显影液显影，最终形成带有光刻胶图案的玻璃基板；

j、通过浸泡刻蚀液或干法蚀刻，将未有光刻胶覆盖区域的镀膜去除，其余部分保留；

k、去除剩余光刻胶，形成带有不同透光性的新型光学掩膜版。

2.如权利要求1所述的一种包含不同透光性的新型光学掩膜版，其特征在于：步骤a中所述基板厚度为0.1mm-10mm。

3.如权利要求2所述的一种包含不同透光性的新型光学掩膜版，其特征在于：步骤a中所述基板可选用苏打玻璃、石英玻璃中的任意一种。

4.如权利要求1所述的一种包含不同透光性的新型光学掩膜版，其特征在于：步骤g中所述部分透光薄膜为金属镀层或氧化物镀层；所述金属镀层为铬镀层，金镀层、钛镀层中的任意一种；所述氧化物镀层为氧化硅镀层，氧化钛镀层、氟化镁镀层中的任意一种。

5.如权利要求4所述的一种包含不同透光性的新型光学掩膜版，其特征在于：所述部分透光薄膜的厚度为0.1nm-10um。

6.如权利要求1所述的一种包含不同透光性的新型光学掩膜版，其特征在于：将上述包含不同透光性的新型光学掩膜版应用于基板表面台阶形貌的制备，其制备工艺包括以下步骤：

A曝光：将包含不同透光性图形的光学掩膜版置于均匀涂覆有光刻胶的基板之上，紫外光线从上而下进行照射，全透光区域下方的光刻胶全部曝光，发生反应，部分透光区域下方的光刻胶不完全曝光，一定厚度的光刻胶发生反应，不透光区域下方的光刻胶未曝光，不发生反应；

B显影：将曝光反应后带有光刻胶的基板放入显影液中进行浸泡蚀刻，完全曝光区域光刻胶被去除干净，部分曝光区域光刻胶保留一定厚度，未曝光区域光刻胶全部保留，从而在基板上形成带有设计图形的不同台阶高度的光刻胶图案。

C刻蚀：对带有不同台阶高度光刻胶图案的基板进行精确的干法刻蚀或等离子体蚀刻，基板上未有光刻胶的区域被刻蚀设定的深度，保留有一定厚度光刻胶的区域被刻蚀设定的较浅的深度，有光刻胶保护的区域未被刻蚀。

D去胶：去除掉剩余的光刻胶，得到最终带有不同刻蚀深度的台阶形貌。