[发明专利]一种PdNi/RGO纳米催化剂及其制备方法

权利要求书

1.一种用于Heck反应的PdNi/RGO纳米催化剂，其特征在于，所述催化剂包括载体和活性组分，所述载体为RGO，所述活性组分是Pd和Ni，其中，所述催化剂中Pd和Ni的质量分数分别为0.67-0.91%和1.22-2.02%；所述活性组分Pd和Ni的平均粒径分别为5~7纳米和4~7纳米。

2.根据权利要求1所述的一种用于Heck反应的PdNi/RGO纳米催化剂，其特征在于，所述催化剂中Pd和Ni的质量分数分别为0.67%和1.22%。

3.权利要求1或2所述的一种用于Heck反应的PdNi/RGO纳米催化剂的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

（1）通过Hummurs法制备载体及其预处理：通过Hummurs法将石墨氧化成氧化石墨，分离、酸洗、水洗；取定量氧化石墨在水中超声分散成氧化石墨悬浊液，8000~12000rpm下离心分离多次，直至下层无沉淀，即可制得分散均匀的氧化石墨烯悬浊液；

（2）PdNi/RGO的制备

向上述制备的氧化石墨烯悬浊液中加入钯源和镍源混合液，添加稳定剂，搅拌均匀后滴加还原剂，继续搅拌4~8 h，静置、抽滤，将产物烘干，即可制得PdNi/RGO纳米催化剂，其中，所述钯源为氯钯酸、醋酸钯或氯化钯中的任一种，所述镍源为硫酸镍、硝酸镍或氯化镍中的任一种。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤（2）中，所述稳定剂为聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇或聚乙烯醇中的任一种；所述还原剂为硼氢化钠、硼氢化钾或焦性没食子酸中的任一种。

5.根据权利要求3或4所述的制备方法，其特征在于，步骤（2）中，所述钯源和镍源中的Pd和Ni的摩尔比为1:2~4。

6.根据权利要求3或4所述的制备方法，其特征在于，所述稳定剂与钯源和镍源中Pd和Ni总的摩尔比为11~22：1。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述稳定剂与钯源和镍源中Pd和Ni总的摩尔比为11~22：1。

8.根据权利要求3、4或7任一所述的制备方法，其特征在于，所述还原剂与钯源和镍源中Pd和Ni总的摩尔比为15~31：1。

9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述还原剂与钯源和镍源中Pd和Ni总的摩尔比为15~31：1。

10.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述还原剂与钯源和镍源中Pd和Ni总的摩尔比为15~31：1。

11.权利要求1或2所述的一种PdNi/RGO纳米催化剂或权利要求3~6任一所述的制备方法制备得到的催化剂在Heck反应中的应用。

12.根据权利要求11所述的应用，其特征在于，所述Heck反应为：向反应器中加入碘苯、苯乙烯、DMF和乙醇，之后加入PdNi/RGO纳米催化剂，搅拌均匀后，放入80~90 ℃的油浴锅中进行反应；反应结束后，将催化剂于产物分离，催化剂留待循环使用。