[发明专利]一种用于脉冲X、γ射线剂量测量的平板电离室

权利要求书

1.一种用于脉冲X、γ射线剂量测量的平板电离室，其特征在于该平板电离室包括工作气体、入射窗、保护环、平板电极以及基座；其中基座内形成有圆柱形的电离室空腔，用以容纳工作气体；入射窗为一端开口一端封闭的圆柱体，其外侧壁上设置有螺纹，开口端扣合在所述电离室空腔底部上；所述电离室空腔的内侧壁上形成有与入射窗上螺纹相配合的螺纹，以使得入射窗通过旋钮的方式固定在基座上；电离室空腔的底部设置有圆形平板电极，所述平板电极沿其外沿设置有环形凹槽，保护环设置在该环形凹槽中。

2.根据权利要求1的平板电离室，其特征在于，所述入射窗由聚甲基丙烯酸甲酯或聚甲醛热塑性结晶聚合物制成。

3.根据权利要求1的平板电离室，其特征在于，所述平板电极的工作表面上喷涂有石墨涂层或者铝涂层。

4.根据权利要求3的平板电离室，其特征在于，所述平板电极由聚甲基丙烯酸甲酯或聚甲醛热塑性结晶聚合物制成。

5.根据权利要求1的平板电离室，其特征在于，所述保护环的高度与电离室高度相当，所述保护环的宽度在2-6mm范围内；所述保护环聚醚醚酮树脂制成。

6.根据权利要求3的平板电离室，所述涂层的厚度在在0.002-0.008mm范围内。

7.根据权利要求1的平板电离室，其特征在于，所述电离室内侧壁上形成有石墨层，厚度为0.002-0.1mm。