[发明专利]一种包含热相变材料的等离子处理腔

权利要求书

1.一种包含热相变材料的等离子处理腔，其包含真空腔本体，该真空腔本体包含腔体内壁及腔体外壁，该腔体内壁形成有用于等离子处理工艺的处理腔，其特征在于，在腔体内壁与腔体外壁之间还形成有至少一空腔，该空腔内填充有热相变材料，其能在空腔内自由流动；所述的热相变材料为包括悬浮的固体颗粒的液态相变材料，在等离子处理过程中，维持等离子体点燃，所述液态相变材料中的固体颗粒吸热融化，维持真空腔本体在第一温度；在等离子处理过程结束后，熄灭等离子体，所述液态相变材料放热凝固，维持真空腔本体在所述第一温度。

2.如权利要求1所述的包含热相变材料的等离子处理腔，其特征在于，所述的空腔经腔体内壁间隔并包围在处理腔的外部。

3.如权利要求1所述的包含热相变材料的等离子处理腔，其特征在于，所述的热相变材料的相变点温度能根据需要通过改变其组分进行调节。

4.如权利要求3所述的包含热相变材料的等离子处理腔，其特征在于，所述的热相变材料选择水合盐。

5.如权利要求4所述的包含热相变材料的等离子处理腔，其特征在于，所述的水合盐选自氯化钙水合盐、醋酸钠水合盐、硫酸钠水合盐中的任意一种或任意多种的组合。

6.如权利要求3所述的包含热相变材料的等离子处理腔，其特征在于，所述的热相变材料选择蜡质相变材料。

7.如权利要求6所述的包含热相变材料的等离子处理腔，其特征在于，所述的蜡质相变材料选择石蜡。

8.如权利要求3所述的包含热相变材料的等离子处理腔，其特征在于，所述的热相变材料选择醋酸。

9.如权利要求1所述的包含热相变材料的等离子处理腔，其特征在于，真空腔侧壁包括至少一开口用于基片传输，所述的空腔包围所述开口，空腔中的液态相变材料在靠近开口端与远离开口端之间流动，使得真空腔侧壁靠近开口处的温度与远离开口处的温度相同。