[发明专利]具有高阻断电压与高电压冲击耐受力的GCT芯片在审
申请号: | 201811613530.8 | 申请日: | 2018-12-27 |
公开(公告)号: | CN109686785A | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 刘佳鹏;曾嵘;周文鹏;赵彪;余占清;陈政宇 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | H01L29/08 | 分类号: | H01L29/08;H01L29/06;H01L29/74 |
代理公司: | 北京知联天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11594 | 代理人: | 张陆军;张迎新 |
地址: | 100084*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 芯片 门极换流晶闸管 高电压冲击 基区表面 阻断电压 发射极 集成门极换流晶闸管 少数载流子寿命 阴极 系统复杂度 阳极发射极 阴极发射极 阳极 短路阳极 辅助设备 局部区域 耐受能力 上电过程 优化结构 缓冲层 耐受力 基区 门极 体内 制作 保证 | ||
1.一种具备高阻断电压与高电压冲击耐受能力的门极换流晶闸管芯片,从阴极到阳极依次设有:n+发射极或阴极发射极、p基区、n基区、n+缓冲层、p+发射极或阳极发射极,p基区表面上设有门极,其特征在于,所述芯片具有以下中的一种或多种:
短路阳极结构、P基区表面局部制作的p+区域、或少数载流子寿命为10us以内的芯片。
2.根据权利要求1所述的门极换流晶闸管芯片,其特征在于,所述短路阳极结构包括阳极、p+发射极或阳极发射极及所述p+发射极中制造的一或多个n+短路点。
3.根据权利要求2所述的门极换流晶闸管芯片,其特征在于,所述n+短路点呈指状或点状分布在所述阳极上。
4.根据权利要求2所述的门极换流晶闸管芯片,其特征在于,所述n+短路点的总面积与阳极总面积的占比根据具体的应用状况进行调整,所述占比取值范围为5%-80%。
5.根据权利要求2所述的门极换流晶闸管芯片,其特征在于,所述n+短路点与n+缓冲层区域或n基区接触。
6.根据权利要求1所述的门极换流晶闸管芯片,其特征在于,所述P基区表面局部制作的p+区域位于门极之下。
7.根据权利要求1所述的门极换流晶闸管芯片,其特征在于,所述P基区表面局部制作的p+区域宽于门极电极的长度,但不触及阴极发射区。
8.根据权利要求1所述的门极换流晶闸管芯片,其特征在于,所述P基区表面局部制作的p+区域的厚度为1um内。
9.根据权利要求1所述的门极换流晶闸管芯片,其特征在于,所述P基区表面局部制作的p+区域的典型掺杂浓度为峰值处浓度>1e18/cm-3。
10.根据权利要求1所述的门极换流晶闸管芯片,其特征在于,所述少数载流子寿命为10us以内的芯片中,整个芯片的少数载流子寿命均为10us以内。
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