[发明专利]一种铼带处理装置及方法

权利要求书

1.一种铼带处理装置，包括：

真空腔，为铼带的除气渗碳处理提供真空环境，其达到的真空度满足除气和渗碳两种功能的要求；

真空系统，设置于所述真空腔外，与所述真空腔连通；

碳源入口，设置于所述真空腔的壁上；

碳源容器，设置于所述真空腔外，与所述碳源入口连通；

导电馈入件，设置于所述真空腔内；

电源，设置于所述真空腔外，与所述导电馈入件连接，所述电源为直流电源，所述电源提供0A到10A的电流，除气时的电流高于渗碳时的电流；

多个样品架，设置于所述真空腔内，每个所述样品架均与所述导电馈入件连接；

所述真空系统包括一个或多个真空泵和多个真空计，所述多个真空计具有不同的量程，从而能够连续准确地检测所述真空腔内的真空度。

2.根据权利要求1所述的铼带处理装置，其中所述真空系统包括一个机械泵和一个分子泵；和/或包括至少两个所述真空计，两个所述真空计具有不同的量程。

3.根据权利要求1或2所述的铼带处理装置，其中所述导电馈入件为真空电极。

4.根据权利要求1或2所述的铼带处理装置，其中在所述碳源入口与所述碳源容器之间设置一个或多个阀门。

5.一种铼带处理方法，包括以下步骤：

S1、将铼带放入真空腔中，所述真空腔为所述铼带的除气渗碳处理提供真空环境，其达到的真空度满足除气和渗碳两种功能的要求，所述真空腔外设置有与所述真空腔连通的真空系统，所述真空系统包括一个或多个真空泵和多个真空计，所述多个真空计具有不同的量程，从而能够连续准确地检测所述真空腔内的真空度，所述真空腔内设置有导电馈入件，所述真空腔外设置有与所述导电馈入件连接的电源，所述真空腔内还设置有多个样品架，每个所述样品架均与所述导电馈入件连接；

S2、在所述真空腔中形成真空至真空度稳定后，对所述铼带通电，持续0.5-3h；

S3、停止通电，使所述铼带冷却至室温；

S4、向所述真空腔中提供碳源蒸气至真空度稳定；

S5、对所述铼带通电，持续0.5-3h；

S6、停止向所述真空腔中提供碳源蒸气，保持通电0.5-3h；

S7、停止通电，使所述铼带冷却至室温；

步骤S2中对铼带通直流电，电流为3A-8A，步骤S5和步骤S6中对铼带通直流电，电流为1.0A-4.5A。

6.根据权利要求5所述的铼带处理方法，其中步骤S2和步骤S3中的真空度小于0.02Pa，步骤S4中的真空度为0.02Pa至10Pa之间。

7.根据权利要求5或6所述的铼带处理方法，其中步骤S4中的所述碳源是有机溶剂。

8.根据权利要求7所述的铼带处理方法，其中

所述碳源是沸点高于50℃，和/或沸点低于150℃的碳氢化合物。

9.根据权利要求7所述的铼带处理方法，其中

所述碳源是选自苯、环己烷、甲苯中的一种或多种的混合物。

10.根据权利要求9所述的铼带处理方法，其中步骤S2和步骤S3中的真空度小于0.01Pa，步骤S4中的真空度为0.05Pa至2Pa，所述碳源是苯，步骤S2、步骤S5和步骤S6中对所述铼带通直流电，步骤S2中的通电电流为3.5-6A，通电时间为0.5-1.5h，和/或步骤S5中的通电电流为1.5-3.5A，通电时间为0.5-1.5h，和/或步骤S6中的通电电流为1.5-3.5A，通电时间为0.5-1.5h。

11.根据权利要求5或6所述的铼带处理方法，其中步骤S3中冷却时间为至少0.5h，和/或步骤S7中冷却时间为至少0.5h。