[发明专利]一种实例分割方法及装置、电子设备、存储介质有效
申请号: | 201811624119.0 | 申请日: | 2018-12-28 |
公开(公告)号: | CN109767446B | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 陈恺;庞江淼;王佳琦;熊宇;李晓潇;孙书洋;奉万森;刘子纬;石建萍;欧阳万里;吕健勤;林达华 | 申请(专利权)人: | 北京市商汤科技开发有限公司 |
主分类号: | G06T7/11 | 分类号: | G06T7/11;G06K9/46;G06K9/62 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 黄娟;张颖玲 |
地址: | 100084 北京市海淀区中*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 实例 分割 方法 装置 电子设备 存储 介质 | ||
1.一种实例分割方法,其特征在于,包括:
获取图像的一个以上建议区域,以及每个建议区域的特征;
将所述每个建议区域的特征输入至包含N个层级的预测网络中,基于每一级物体框提取出的特征,进行所述每一级的后一级物体框预测和物体框中的掩膜预测,直至得到所述每个建议区域的第N级物体框和第N级物体框中的掩膜;
将所述每个建议区域的第N级物体框和第N级物体框中的掩膜,作为图像的实例分割的结果输出;其中,N为大于等于2的正整数。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将所述每个建议区域的特征输入至包含N个层级的预测网络中,基于每一级物体框提取出的特征,进行所述每一级的后一级物体框预测和物体框中的掩膜预测,直至得到所述每个建议区域的第N级物体框和第N级物体框中的掩膜,包括:
将所述每个建议区域的特征输入至包含N个层级的预测网络中,分别进行N级物体框预测和物体掩膜预测,得到所述每个建议区域的第N级物体框和第N级物体框中的掩膜。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将所述每个建议区域的特征输入至包含N个层级的预测网络中,基于每一级物体框提取出的特征,进行所述每一级的后一级物体框预测和物体框中的掩膜预测,直至得到所述每个建议区域的第N级物体框和第N级物体框中的掩膜,包括:
将所述每个建议区域的特征输入至包含N个层级的预测网络中,每一级按照先物体框预测后物体框中的掩膜预测的顺序,进行N级物体框预测和物体框中的掩膜预测,得到所述每个建议区域的第N级物体框和第N级物体框中的掩膜。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将所述每个建议区域的特征输入至包含N个层级的预测网络中,基于每一级物体框提取出的特征,进行所述每一级的后一级物体框预测和物体框中的掩膜预测,直至得到所述每个建议区域的第N级物体框和第N级物体框中的掩膜;并将所述每个建议区域的第N级物体框和第N级物体框中的掩膜,作为图像的实例分割的结果输出,包括:
获取所述每个建议区域的第i-1级物体框,并从所述每个建议区域的第i-1级物体框中提取特征;
根据从所述每个建议区域的第i-1级物体框中提取出的特征,进行第i级物体框预测和第i级物体框中的掩膜预测,得到所述每个建议区域的第i级物体框和第i级物体框中的掩膜;
i更新为i+1,返回至所述获取所述每个建议区域的第i-1级物体框,并从所述每个建议区域的第i-1级物体框中提取特征;
直至得到所述每个建议区域的第N级物体框和第N级物体框中的掩膜,将所述每个建议区域的第N级物体框和第N级物体框中的掩膜,作为所述图像的实例分割的结果;
其中,i大于等于1小于等于N;
当i=1时,从所述每个建议区域的第i-1级物体框中提取出的特征为所述每个建议区域的特征。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据从所述每个建议区域的第i-1级物体框中提取出的特征,进行第i级物体框中的掩膜预测,得到所述每个建议区域的第i级物体框中的掩膜,包括:
当i1时,获取所述每个建议区域的第i-1级物体框,以及获取所述每个建议区域进行第i-1级物体框中的掩膜预测的特征;
根据从所述每个建议区域的第i-1级物体框中提取出的特征和所述每个建议区域进行第i-1级物体框中的掩膜预测的特征,进行特征融合得到第i级物体框中的掩膜预测的融合特征;
根据所述第i级物体框中的掩膜预测的融合特征,进行所述每个建议区域的第i级物体框中的掩膜预测,得到所述每个建议区域的第i级物体框中的掩膜。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述获取所述每个建议区域进行第i-1级物体框中的掩膜预测的特征,包括:
对从所述每个建议区域的第i-1级物体框中提取出的特征进行特征变换,得到所述每个建议区域的第i-1级物体框中的掩膜预测的中间特征;
对所述第i-1级物体框中的掩膜预测的中间特征进行特征编码,得到所述每个建议区域进行第i-1级物体框中的掩膜预测的特征。
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