[发明专利]一种LED铝面保护蚀刻药水

权利要求书

1.一种LED铝面保护蚀刻药水，其特征在于，所述蚀刻药水包括如下重量份的成分：盐酸：25~35份，磷酸钾：15~25份，氯化钾：10~15份，氯化钠：15~20份，三氯化铁：10~15份，氯化铵：10~15份，缓蚀剂：1~5份，稳定剂：1~5份，表面活性剂：1~5份，氧化剂：1~5份，去离子水：70~80份。

2.根据权利要求1所述的一种LED铝面保护蚀刻药水，其特征在于，所述蚀刻药水包括如下重量份的成分：盐酸：25~30份，磷酸钾：15~20份，氯化钾：10~13份，氯化钠：18~20份，三氯化铁：12~15份，氯化铵：13~15份，缓蚀剂：1~4份，稳定剂：1~3份，表面活性剂：2~5份，氧化剂：3~5份，去离子水：75~80份。

3.根据权利要求1所述的一种LED铝面保护蚀刻药水，其特征在于，所述蚀刻药水包括如下重量份的成分：盐酸：20份，磷酸钾：20份，氯化钾：13份，氯化钠：18份，三氯化铁：14份，氯化铵：13份，缓蚀剂：3份，稳定剂：2份，表面活性剂：4份，氧化剂：3份，去离子水：75份。

4.根据权利要求1所述的一种LED铝面保护蚀刻药水，其特征在于，稳定剂为乙二醇甲醚、二甘醇或二乙二醇单甲醚。

5.根据权利要求1所述的一种LED铝面保护蚀刻药水，其特征在于，所述缓蚀剂为苯并三唑或甲基苯并三唑。

6.根据权利要求1所述的一种LED铝面保护蚀刻药水，其特征在于，所述表面活性剂为烷基苯磺酸钠、烷基硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚硫酸钠或脂肪酸钠。

7.根据权利要求1所述的一种LED铝面保护蚀刻药水，其特征在于，所述氧化剂为过氧化氢。

8.根据权利要求1所述的一种LED铝面保护蚀刻药水，其特征在于，采用所述蚀刻药水进行蚀刻的方法包括如下步骤：LED基板的铝面上形成一层光阻层，将蚀刻药水加热至40~50℃，使用所述蚀刻药水蚀刻外露于光阻层外侧的铝面浸泡于蚀刻药水中，完成对铝面的蚀刻。