[发明专利]溶射方法

说明书

本发明涉及一种溶射方法，该溶射方法包括如下步骤：去除工件表面的沉积物；对工件表面进行喷砂处理；对工件进行一次液洗；对工件进行溶射作业；对工件进行二次液洗；干燥工件；对工件进行真空包装。该溶射方法，在去除工件表面的沉积物后，通过溶射的方式对工件进行表面处理，以在工件表面形成涂层，涂层不仅能达到防腐蚀、耐磨等目的，还能提高工件的吸附能力。

技术领域

本发明涉及表面处理技术领域，尤其涉及一种溶射方法。

背景技术

随着半导体和液晶显示面板产业的不断发展，我国的半导体产业和液晶面板产业得到了很大的提升，行业产能也越来越高。半导体和液晶显示面板等产业属于精细化产业，很多工序都是在真空设备中进行，这就要求真空设备的零部件保持良好的吸附生产过程中产生的沉积物的性能，因此，就需要对这些零部件进行定期维护，以保证生产精度。

通常，在对这些零部件进行维护时，需要将附着在零部件表面的沉积物去除，传统技术中，大多采用化学溶液浸泡或机械剥离的方式去除沉积物，多次维护后，会大大降低这些零部件的吸附能力。

发明内容

本发明的目的在于提供一种溶射方法，旨在解决沉积物通过传统技术去除沉积物会降低零部件吸附能力的问题。

一种溶射方法，包括如下步骤：

去除工件表面的沉积物；

对工件表面进行喷砂处理；

对工件进行一次液洗；

对工件进行溶射作业；

对工件进行二次液洗；

干燥工件；

对工件进行真空包装。

在其中一个实施例中，去除工件表面的沉积物的步骤，具体包括：

将工件放入硝酸溶液中，浸泡第一预设时间；

将工件放入硝氟酸溶液中，浸泡第二预设时间；

将工件放入纯水中，浸泡第三预设时间；

对工件进行干燥。

在其中一个实施例中，去除工件表面的沉积物的步骤，具体包括：

通过水刀去除工件表面的沉积物；

对工件进行干燥。

在其中一个实施例中，对工件表面进行喷砂处理的步骤，具体包括：

对工件表面的非喷砂区域进行保护；

向工件表面的喷砂区域进行精喷砂。

在其中一个实施例中，在对工件表面的非喷砂区域进行保护的步骤与向工件表面的喷砂区域进行精喷砂的步骤之间，还包括：

向工件表面喷射玻璃珠。

在其中一个实施例中，向工件表面的喷砂区域进行精喷砂的步骤之后，还包括：

去除工件表面的非喷砂区域的保护；

去除工件上的毛刺；

检查工件的粗糙度和平面度。

在其中一个实施例中，对工件进行一次液洗的步骤，具体包括：

采用纯水对工件表面进行清洗；

将工件放入超声波清洗槽中，向超声波清洗槽内注入纯水，通过超声波震荡对工件进行清洗；

对工件进行干燥。

在其中一个实施例中，对工件进行溶射作业的步骤，具体包括：