[发明专利]一种掩模版姿态监测方法、装置及掩模版颗粒度检测设备

权利要求书

1.一种掩模版姿态监测方法，其特征在于，包括：

获取至少一个标定点至标准面沿第一方向的距离，所述标准面为标定掩模版的表面；

获取所述至少一个标定点至待测掩模版上第一检测点、第二检测点和第三检测点沿所述第一方向的距离，其中，所述第一检测点与所述第二检测点在所述标准面内的投影沿第二方向排布，所述第一检测点与所述第三检测点在所述标准面内的投影沿第三方向排布，所述第一方向、第二方向和第三方向互相垂直，所述标准面垂直于所述第一方向；

根据所述第一检测点至对应的标定点沿所述第一方向的距离、第一检测点对应的标定点至所述标准面沿所述第一方向的距离、第二检测点至对应的标定点沿所述第一方向的距离、第二检测点对应的标定点至所述标准面沿所述第一方向的距离以及第一检测点与第二检测点沿所述第二方向的距离计算所述待测掩模版相对于所述标准面绕所述第三方向的偏转角度；

根据所述第一检测点至对应的标定点沿所述第一方向的距离、第一检测点对应的标定点至所述标准面沿所述第一方向的距离、第三检测点至对应的标定点沿所述第一方向的距离、第三检测点对应的标定点至所述标准面沿所述第一方向的距离以及第一检测点与第三检测点沿所述第三方向的距离计算所述待测掩模版相对于所述标准面绕所述第二方向的偏转角度。

2.根据权利要求1所述的掩模版姿态监测方法，其特征在于，在所述获取至少一个标定点至标准面沿第一方向的距离之前，还包括：

对标定掩模版进行调平，以使所述标定掩模版垂直于所述第一方向。

3.根据权利要求1所述的掩模版姿态监测方法，其特征在于，所述标定点包括第一标定点和第二标定点，所述第一标定点和第二标定点沿所述第二方向排布，获取所述至少一个标定点至待测掩模版上第一检测点、第二检测点和第三检测点沿所述第一方向的距离，包括：

获取所述第一标定点至所述第一检测点沿所述第一方向的距离，以及所述第二标定点至所述第二检测点沿所述第一方向的距离；

沿所述第三方向移动所述待测掩模版，获取所述第一标定点至所述第三检测点沿所述第一方向的距离，其中，所述待测掩模版沿所述第三方向移动的距离为所述第一检测点与第三检测点沿所述第三方向的距离。

4.根据权利要求3所述的掩模版姿态监测方法，其特征在于，所述第一标定点与第二标定点位于所述待测掩模版的同侧或异侧。

5.根据权利要求1所述的掩模版姿态监测方法，其特征在于，所述标定点包括第三标定点和第四标定点，所述第三标定点和第四标定点沿所述第三方向排布，获取所述至少一个标定点至待测掩模版上第一检测点、第二检测点和第三检测点沿所述第一方向的距离，包括：

获取所述第三标定点至所述第一检测点沿所述第一方向的距离，以及所述第四标定点至所述第三检测点沿所述第一方向的距离；

沿所述第二方向移动所述待测掩模版，获取所述第三标定点至所述第二检测点沿所述第一方向的距离，其中，所述待测掩模版沿所述第二方向移动的距离为所述第一检测点与第二检测点沿所述第二方向的距离。

6.根据权利要求5所述的掩模版姿态监测方法，其特征在于，所述第三标定点与第四标定点位于所述待测掩模版的同侧或异侧。

7.根据权利要求1所述的掩模版姿态监测方法，其特征在于，所述标定点包括第五标定点，获取所述至少一个标定点至待测掩模版上第一检测点、第二检测点和第三检测点沿所述第一方向的距离，包括：

沿所述第二方向和/或第三方向移动所述待测掩模版，获取所述第五标定点至所述第一检测点沿所述第一方向的距离、所述第五标定点至所述第二检测点沿所述第一方向的距离，以及所述第五标定点至所述第三检测点沿所述第一方向的距离，其中，所述待测掩模版沿所述第二方向移动的距离为所述第一检测点与第二检测点沿所述第二方向的距离，所述待测掩模版沿所述第三方向移动的距离为所述第一检测点与第三检测点沿所述第三方向的距离。