[发明专利]扫描曝光装置

权利要求书

1.一种扫描曝光装置，其将反射型的光罩图案的一部分的投影像投影于设定在挠性的基板的表面的投影区域内的同时，使所述基板在沿着所述表面的第一方向上移动，来将所述光罩图案的像扫描曝光于所述基板，

所述扫描曝光装置的特征在于，

具备：

照明光学系统，其将照明光照射至所述光罩图案；

投影光学系统，其供来自所述光罩图案的反射光束入射，在所述投影区域内沿着平面状的投影像面将所述光罩图案的一部分的投影像在最佳聚焦状态下成像；和

基板支承筒，其利用从沿与所述第一方向正交的第二方向延伸的轴以规定半径弯曲的外周面使所述基板弯曲成圆筒面状来支承所述基板，并且绕所述轴进行旋转，来使所述基板在与所述第一方向对应的所述外周面的周向上移动，

以使所述平面状的投影像面和弯曲成所述圆筒面状的所述基板的表面在所述投影区域内的所述第一方向上分离的两处分别相交的方式设定了所述基板支承筒和所述投影光学系统。

2.根据权利要求1所述的扫描曝光装置，其特征在于，

以在将由所述投影光学系统投射于所述基板的所述反射光束的所述投影区域的所述第一方向上的中点的散焦量设为Δ、且将所述投影光学系统的焦点深度设为DOF时满足0.5＜Δ/DOF≤3的方式，分别设定了所述投影光学系统和所述基板支承筒。

3.根据权利要求2所述的扫描曝光装置，其特征在于，

在所述散焦量Δ与所述焦点深度DOF之间的关系中，被设定为满足1≤Δ/DOF。

4.根据权利要求2所述的扫描曝光装置，其特征在于，

在所述投影区域内所述光罩图案的一部分的投影像被在最佳聚焦状态下成像的所述平面状的投影像面与所述基板的表面的所述散焦量Δ被设定为，以所述第一方向上的所述投影区域的所述中点的位置为轴而在所述第一方向上呈线对称地变化。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的扫描曝光装置，其特征在于，

在将所述第一方向上的所述投影区域的宽度设为A、且将弯曲成所述圆筒面状的所述基板的表面的半径设为r₂时，在所述宽度A内呈圆弧状变化的所述散焦量Δ被设定为Δ＝r₂-((r₂²)-(A/2)²)^1/2。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的扫描曝光装置，其特征在于，

所述照明光学系统包括：

偏振光分束器，其配置在所述光罩图案与所述投影光学系统之间，所述偏振光分束器使来自所述照明光学系统的照明光朝向所述光罩图案反射，且使来自所述光罩图案的所述反射光束以朝向所述投影光学系统的方式透射；和

1/4波片，其配置在所述光罩图案与所述偏振光分束器之间。

7.根据权利要求1～4中任一项所述的扫描曝光装置，其特征在于，

所述投影光学系统具有多个分割投影光学系统，

所述分割投影光学系统沿着所述第二方向配置成列状，分别向对应的所述投影区域投射来自所述光罩图案的所述反射光束。

8.根据权利要求7所述的扫描曝光装置，其特征在于，

所述多个分割投影光学系统各自在所述第一方向上至少配置成两列，在所述第二方向上与相邻的所述分割投影光学系统各自对应的所述投影区域的端部之间配置成彼此重叠。

9.根据权利要求8所述的扫描曝光装置，其特征在于，

与所述多个分割投影光学系统各自对应的所述投影区域的所述第一方向上的宽度的累计值被设定为在所述第二方向上为恒定。

10.根据权利要求7所述的扫描曝光装置，其特征在于，

所述多个分割投影光学系统各自具有第一光学系统以及第二光学系统，所述第一光学系统以及所述第二光学系统分别构成为使戴森系统变形而得到的远心的反射折射光学系统，

所述第一光学系统具有使来自所述光罩图案的所述反射光束的光路偏转的第一偏转构件、第一透镜组、和配置于光瞳面的第一凹面镜，

所述第二光学系统具有使来自所述光罩图案的所述反射光束的光路偏转的第二偏转构件、第二透镜组、和配置于光瞳面的第二凹面镜，

所述第一光学系统与所述第二光学系统对称地设置。