[发明专利]一种微型聚光太阳能电池及其制备方法在审
申请号: | 201811631705.8 | 申请日: | 2018-12-28 |
公开(公告)号: | CN111403506A | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 王岚 | 申请(专利权)人: | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/048;H01L31/052;H01L31/054;H01L31/18 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 李静 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 微型 聚光 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种微型聚光太阳能电池,其特征在于,包括:
衬底;
太阳能微电池单元,包括依次设置的背电极、吸收层、缓冲层、窗口层和透明绝缘层;其中所述太阳能微电池单元设置于所述衬底上;
聚光透镜,设置于所述太阳能微电池单元吸收光线的一侧,与所述太阳能微电池单元对应设置。
2.根据权利要求1所述的微型聚光太阳能电池,其特征在于,所述衬底包括:金属导热基板,和设置在金属导热基板上的玻璃衬底;所述背电极设置在玻璃衬底上;
可选地,所述背电极之间的间距为1-2mm,所述背电极为沉积在玻璃衬底上的一层Mo,厚度为500-1000nm。
3.根据权利要求1或2所述的微型聚光太阳能电池,其特征在于,所述吸收层为CIGS吸收层,设置于所述背电极上,所述CIGS吸收层的厚度为2-3μm;
可选地,所述缓冲层为n型缓冲层;所述缓冲层的厚度为30-50nm。
4.根据权利要求1-3任一所述的微型聚光太阳能电池,其特征在于,所述窗口层包括透明高阻层和透明导电层;所述透明高阻层的材料为本征氧化锌和氧化铝;所述透明导电层的材料为掺铝氧化锌、掺锡氧化铟、掺锑氧化锡中的一种;所述窗口层厚度为500-1000nm;
可选地,所述透明绝缘层设置在衬底、太阳能微电池单元及聚光透镜的间隙,所述透明绝缘层为透明电绝缘材料,用于支撑所述聚光透镜,并将所述聚光透镜与所述太阳能微电池单元进行绝缘隔离。
5.根据权利要求1-4任一项所述的微型聚光太阳能电池,其特征在于,所述聚光透镜的直径大于等于所述太阳能微电池单元之间的间距;所述聚光透镜的直径为1.8-2.2mm,折射率为1.5-2.5。
6.根据权利要求1-5任一项所述的微型聚光太阳能电池,其特征在于,所述微型聚光太阳能电池包括多个太阳能微电池单元,多个太阳能微电池单元设置为矩形阵列,
可选地,所述太阳能微电池单元的宽度为50-100μm。
7.一种如权利要求1-6任一项所述的微型聚光太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1,在衬底上制备太阳能微电池单元,在所述太阳能微电池单元的背电极上设置电流栅线;
S2,在所述太阳能微电池单元上设置聚光透镜。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,S1中在衬底上制备太阳能微电池单元的步骤为:在衬底上形成背电极;在所述背电极上依次设置吸收层、缓冲层、窗口层和透明绝缘层。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述吸收层采用选择性沉积法沉积在所述背电极上;
所述选择性沉积法为带有掩模板的PVD法、电沉积法或打印法。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述吸收层的沉积方法为在背电极上沉积铟颗粒,在铟颗粒上依次沉积铜和镓,然后硒化处理,即得所述吸收层;
所述铟颗粒粒径为50-100μm。
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的