[发明专利]一种Mg-RE-Zn系镁合金的透射薄膜试样的制备方法在审

专利信息
申请号: 201811635287.X 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN109682848A 公开(公告)日: 2019-04-26
发明(设计)人: 李婷;付新;徐云培;李聪;贾荣光;夏雯;屈娟 申请(专利权)人: 国合通用测试评价认证股份公司;国标(北京)检验认证有限公司
主分类号: G01N23/2005 分类号: G01N23/2005;G01N23/20058
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 张文宝
地址: 100088 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 镁合金 透射薄膜 制备 研磨 减薄 圆片 进气口 砂纸 离子减薄仪 薄膜样品 电解双喷 块状试样 砂纸研磨 透射电镜 无污染层 样品表面 圆片中心 氩气压力 成圆片 所得物 薄区 可用 小孔 样机 切割 观察
【说明书】:

发明公开了一种Mg‑RE‑Zn系镁合金的透射薄膜试样的制备方法,该方法包括以下步骤:(1)将Mg‑RE‑Zn系镁合金块状试样切割成厚度为1mm左右的薄片;(2)将步骤(1)所得薄片用金刚砂纸研磨至0.1mm厚;而且薄片一侧研磨至表面光滑;(3)采用金刚砂纸分别研磨步骤(2)所得薄片两侧,直至薄片厚度约为0.06mm;(4)在铳样机上将步骤(3)所得薄片铳成圆片;(5)将步骤(4)所得圆片置于电解双喷减薄仪中进行双喷减薄;直至圆片中心出现小孔为止;(6)将步骤(5)所得圆片置于离子减薄仪,进气口氩气压力约为0.18Mpa,所得物即为Mg‑RE‑Zn系镁合金的透射薄膜试样。本方法制备的Mg‑RE‑Zn系镁合金薄膜样品,可用于透射电镜观察的薄区较大,样品表面干净无污染层,成本低廉。

技术领域

本发明属于透射电镜样品制备技术领域,具体涉及一种Mg-RE-Zn系镁合金的透射薄膜试样的制备方法。

背景技术

随着世界能源紧缺与环境问题的日益突出,具有低密度、高比强度比刚度、可回收等优点的镁合金材料,在航空航天、交通工具、电子产品等领域都有很大的开发应用潜能。其中,Mg-RE-Zn系合金由于其基体中可以形成长周期堆垛有序结构相LPSO,其力学性能和微观组织结构成为近期材料学研究的热点之一。、然而,由于Mg-RE-Zn系镁合金化学性质活泼,表面容易氧化,并且其中纳米析出相种类较多,对离子束和温度都比较敏感,采用传统方法制备便于观察的透射电镜样品比较困难。目前对于Mg-RE-Zn系镁合金,为了满足透射电镜观察要求,样品制备方法主要有三种:第一种方法是直接电解减薄,样品表面非常容易污染,表面污染物使得透射电镜观察非常困难,更无法获取原子分辨水平的高分辨图像;第二种方法是直接离子减薄,采用高能量大角度的离子束直接对样品进行减薄,会使样品表面温度升高,由于Mg-RE-Zn系镁合金中纳米析出相种类较多,且对离子束和温度都比较敏感,因此在大能量离子束和较高温度的共同作用下,可能会导致样品表面出现影响层及Morie条纹,或者纳米析出相及其他精细结构的晶体结构转变,导致样品中由于制样引入的信息过多,给透射电镜观察样品的显微组织结构带来困难;第三种方法是采用聚焦离子束FIB系统直接制备透射电镜样品,可以实现定点的微区制样,并且样品厚度达十几纳米的样品薄片制样。但是制备一个样品所需时间较长,效率低,费用高。因此,亟待开发一种适用于Mg-RE-Zn系镁合金的高效的、高质量、经济实用的透射电镜制样方法。

发明内容

由于Mg-RE-Zn系镁合金化学性质活泼,表面容易氧化,并且其中纳米析出相种类较多,对离子束和温度都比较敏感,采用电解减薄、离子减薄或FIB方法制备便于观察的透射电镜样品都具有其局限性,因此,亟待开发一种适用于Mg-RE-Zn系镁合金的高效的、高质量、经济实用的透射电镜制样方法。

本发明的技术方案如下:

一种Mg-RE-Zn系镁合金的透射薄膜试样的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1)块状试样切割:Mg-RE-Zn系镁合金块状试样采用精密切割机或者慢速锯切割成厚度为1mm左右的薄片;

(2)机械研磨-粗磨:将所述薄片用松香粘在玻璃片上,将薄片依次用400目、1000目、2000目金刚砂纸机械研磨至0.1mm厚;然后将所述薄片从玻璃片上取下,依次用1000目、2000目的金刚砂纸,将与玻璃片对粘的薄片一侧进行研磨至表面光滑;

(3)机械研磨-细磨:采用2000目的金刚砂纸分别研磨所述薄片两侧,直至样品厚度约为0.06mm;

(4)铳样:在铳样机上将样品铳成Φ3mm圆片;

(5)电解减薄:将Φ3mm圆片放置于电解双喷减薄仪中,采用3—5%的高氯酸乙醇溶液,对其进行双喷减薄;直至圆片中心出现小孔,电解减薄终止。

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