[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用在审

申请号：	201811635492.6	申请日：	2018-12-29
公开（公告）号：	CN111378377A	公开（公告）日：	2020-07-07
发明（设计）人：	周文婷;荆建芬;宋凯;汪国豪;杨俊雅;李恒	申请（专利权）人：	安集微电子（上海）有限公司
主分类号：	C09G1/02	分类号：	C09G1/02;C23F3/06
代理公司：	北京大成律师事务所 11352	代理人：	李佳铭;王芳
地址：	201203 上海市浦东新区张江高科技园区***	国省代码：	上海;31
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摘要：
搜索关键词：	一种化学机械抛光及其应用
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【权利要求书】：

1.一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒，含一个或多个羧基的含氮杂环化合物，唑类化合物及其衍生物，有机酸，氧化剂。

2.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述二氧化硅研磨颗粒的质量百分比含量为1％-15％。

3.根据权利要求2所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述二氧化硅研磨颗粒的质量百分比含量为5％-15％。

4.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述含一个或多个羧基的含氮杂环化合物包括含一个或多个羧基的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述含一个或多个羧基的含氮杂环化合物包括2-羧基吡啶、3-羧基吡啶、4-羧基吡啶、2，3-二羧基吡啶、2，4-二羧基吡啶、3，4-二羧基吡啶、2，6-二羧基吡啶、3，5-二羧基吡啶、2-羧基哌啶、3-羧基哌啶、4-羧基哌啶、2，3-二羧基哌啶、2，4-二羧基哌啶、2，6-二羧基哌啶、3，5-二羧基哌啶、2-羧基吡咯烷、3-羧基吡咯烷、2，4-二羧基吡咯烷、2，5-二羧基吡咯烷、2-羧基吡咯、3-羧基吡咯、2，5-二羧基吡咯中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述含一个或多个羧基的含氮杂环化合物的质量百分比含量为0.01％-0.5％。

7.根据权利要求6所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述含一个或多个羧基的含氮杂环化合物的质量百分比含量为0.01％-0.1％。

8.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述唑类化合物及其衍生物包括1，2，3-三氮唑、1H-四氮唑、1，2，4-三氮唑、1-甲基-5氨基四氮唑、5-甲基四氮唑、1-氨基-5-巯基-1，2，4四氮唑、5-苯基四氮唑和1-苯基-5-巯基四氮唑、苯并三氮唑、5-甲基-1，2，3-苯并三氮唑、5-羧基苯并三氮唑、1-羟基-苯并三氮唑、3-氨基-1，2，4-三氮唑、3，5-二氨基-1，2，4-三氮唑、5-羧基-3-氨基-1，2，4-三氮唑、3-氨基-5-巯基-1，2，4-三氮唑、5-乙酸-1H-四氮唑、5-甲基四氮唑和5-氨基-1H-四氮唑中的一种或多种。

9.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述唑类化合物及其衍生物的质量百分比含量为0.01％-2％。

10.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述有机酸包括柠檬酸，草酸，酒石酸，羟基乙叉二膦酸，氨基三甲叉膦酸，甘氨酸，精氨酸，脯氨酸中的一种或多种。

11.根据权利要求10所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述有机酸包括柠檬酸，羟基乙叉二膦酸，甘氨酸中的一种或多种。

12.根据权利要求10所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述有机酸的质量百分比含量为0.1％-2％。

13.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述氧化剂为过氧化氢。

14.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，

所述氧化剂的质量百分比含量为0.1％-1.5％。