[发明专利]一种远紫外高反射镜的制备方法

权利要求书

1.一种远紫外高反射镜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)清洗基板：将基板进行超声清洗后用N₂吹干待用；

2)离子束流刻蚀基板：基板放入镀膜室后抽真空使气压低于10^-4pa，采用离子束流刻蚀基板，通过刻蚀减少基板表面沉积的杂质和缺陷，用以改善基板表面的质量；

3)镀制Cr膜：在常温下，采用电子束蒸发方式镀制10-15nm的Cr膜，用以增加基板对Al膜的附着力；

4)镀制Al膜：在常温下，采用热蒸发方式加热熔化钨舟中的Al粒，通过晶振监控的方式控制基板上Al膜的镀制厚度为80-120nm；

5)控制和减少Al₂O₃氧化膜的形成：将镀膜室温度升高到180-220℃，烘烤整个镀膜室超过30分钟，用以降低镀膜室的水汽对Al膜氧化的影响，继续抽真空，使气压低于10^-4pa，采用氩离子束流刻蚀Al膜生成Al₂O₃氧化膜，减小紫外波段的吸收；

6)镀制MgF₂薄膜：采用电子束蒸发方式镀制20-30nm致密均匀的MgF₂薄膜，并将镀制MgF₂薄膜后的基板在镀膜机中冷却到室温；

7)退火处理：将镀制好的基板放入清洗干净的耐高温石英容器中，置于高温试验箱中抽真空使气压低于10^-4pa，设置分步退火条件，将镀制MgF₂薄膜后的基板在250-300℃退火3小时，具体包括以下步骤：

71)加热10分钟时升温到50℃；

72)再加热20分钟，使温度从50℃加热到100℃；

73)再加热30分钟，使温度从100℃加热到200℃；

74)再加热30分钟，使温度从200℃加热到300℃；

75)维持温度300℃，退火3小时；

76)降温到室温，完成整个退火过程；

8)储存：将退火处理后的基板，放入密封容器里充入N₂，置于干燥柜中保存。

2.根据权利要求1所述的一种远紫外高反射镜的制备方法，其特征在于，所述的步骤1)中，采用温度为40摄氏度弱碱性溶液清洗基板，并通过速率为50mm/min的慢提拉方式取出。

3.根据权利要求1所述的一种远紫外高反射镜的制备方法，其特征在于，所述的步骤2)中，采用电压为450V、电流为600mA、氧气流量为0sccm、氩气流量为20sccm的离子束流刻蚀基板10分钟。

4.根据权利要求1所述的一种远紫外高反射镜的制备方法，其特征在于，所述的步骤3)中，施加140mA电流，以7-10A/s的速率镀制Cr膜。

5.根据权利要求1所述的一种远紫外高反射镜的制备方法，其特征在于，所述的步骤4)中，施加450mA电流，热蒸发钨舟中纯度为99.999％的Al粒，使Al粒以10-20A/s的速率蒸发镀制Al膜。

6.根据权利要求1所述的一种远紫外高反射镜的制备方法，其特征在于，所述的步骤5)中，采用电压为500V，电流为500mA，流量为25sccm的氩离子束流以5-8A/s的速率进行20s的Al膜刻蚀。

7.根据权利要求1所述的一种远紫外高反射镜的制备方法，其特征在于，所述的步骤6)中，在离子蚀刻氧化层后，施加30mA电流以速率7-10A/s镀制MgF₂薄膜。