[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用

权利要求书

1.一 种用于阻挡层和超低介电常数材料ULK抛光的化学机械抛光液，包含研磨颗

粒、金属缓蚀剂、络合剂、氧化剂，阴离子型氟碳表面活性剂和水；

所述阴离子型氟碳表面活性剂的通式为CnF2n+1R，其中1≤n≤10，R为-COOM、

-SO3M或-OPO3M，M为H、K或NH4；所述阴离子型氟碳表面活性剂的质量

百分比含量为0.0001%-0.2%；

所述研磨颗粒选自二氧化硅、三氧化二铝、二氧化铈、掺杂铝的二氧化硅、聚甲

基丙烯酸甲酯中的一种或多种；所述研磨颗粒的质量百分比含量为1-20%；所述

研磨颗粒的粒径为20~150nm；

所述金属缓蚀剂为唑类化合物；

所述络合剂选自草酸、丙二酸、丁二酸、柠檬酸、甘氨酸、2-膦酸基丁烷-1，2，

4-三羧酸、羟基亚乙基二膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸、多氨基多醚基亚甲基膦酸、氨基三亚甲基膦酸中的一种或多种；

所述氧化剂选自过氧化氢、过氧乙酸，过硫酸钾、过硫酸铵中的一种或多种；

所述化学机械抛光液的PH值≤7。

2.根据权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，

所述阴离子型氟碳表面活性剂的质量百分比含量为0.001%-0.1%。

3.根据权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，

所述研磨颗粒的质量百分比含量为2-10%。

4.根据权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，

所述研磨颗粒的粒径为30~120nm。

5.根据权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，

所述唑类化合物选自苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、1，2，4-三氮唑、3-氨基-1，2，4-三氮唑、4-氨基-1，2，4-三氮唑、5-甲基-四氮唑中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，

所述金属缓蚀剂的质量百分比含量为0.001~2%。

7.根据权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，

所述金属缓蚀剂的质量百分比含量为0.01%-1%。

8.根据权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，

所述络合剂的质量百分比含量为0.01%-2%。

9.根据权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，

所述络合剂的质量百分比含量为0.05%-1%。

10.根据权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，

所述氧化剂的质量百分比含量为0.01%-1%。

11.根据权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，

所述化学机械抛光液的PH值为2-5。

12.一种如权利要求1-11任一项所述的化学机械抛光液在阻挡层和超低介电常数材料ULK抛光中的应用。