[发明专利]脑电定位测量帽及制作工艺

权利要求书

1.一种脑电定位测量帽，其特征在于，包括测量帽本体以及安装于测量帽本体的电极模具，所述侧量帽本体包括多条带刻度的测量卷尺，测量卷尺之间通过电极模具活动连接，所述电极模具可沿测量卷尺移动；所述测量卷尺与电极模具按照国际10/20或10/10系统排布组成网状结构。

2.根据权利要求1所述的脑电定位测量帽，其特征在于，所述电极模具包括中轴以及与中轴相配合的可拆卸的扣件，所述中轴设置有铰接孔，所述扣件内侧设置有限位凸起，所述限位凸起的内径尺寸与中轴的铰接孔内径匹配。

3.根据权利要求2所述的脑电定位测量帽，其特征在于，所述扣件包括交错安装于所述中轴上下两端的第一扣件与第二扣件，所述第一扣件与第二扣件均设置为两侧开放式结构。

4.根据权利要求3所述的脑电定位测量帽，其特征在于，所述第一扣件与第二扣件的结构相同，且内侧为光滑的平面结构，所述第一扣件、第二扣件与中轴组成第一电极模具。

5.根据权利要求3所述的脑电定位测量帽，其特征在于，所述第一扣件的内侧设置为粗糙的带凸起结构，所述第二扣件内侧设置为光滑的平面结构，所述第一扣件、第二扣件与中轴组成第二电极模具。

6.根据权利要求4或5所述的脑电定位测量帽，其特征在于，所述测量帽本体包括周向测量卷尺、多条通过电极模具与周向测量卷尺活动连接的纵向测量卷尺和横向测量卷尺，所述周向测量卷尺组成长度可调整的环形结构。

7.根据权利要求6所述的脑电定位测量帽，其特征在于，所述纵向测量卷尺一端通过第二电极模具与周向测量卷尺连接,另一端通过第一电极模具与周向测量卷尺活动连接。

8.根据权利要求7所述的脑电定位测量帽，其特征在于，所述横向测量卷尺与周向测量卷尺、纵向测量卷尺之间均通过第一电极模具活动连接。

9.根据权利要求8所述的脑电定位测量帽，其特征在于，所述纵向测量卷尺包括中线纵向测量卷尺、左侧位纵向测量卷尺以及右侧位纵向测量卷尺，所述左侧位纵向测量卷尺与右侧位纵向测量卷尺以中线纵向测量卷尺为中心轴对称分布；所述横向测量卷尺包括中线横向测量卷尺、上侧位横向测量卷尺以及下侧位横向测量卷尺，所述上侧位横向测量卷尺与下侧位横向测量卷以中线横向测量卷尺为中心轴对称分布。

10.一种脑电定位测量帽制作工艺，采用权利要求1-9任一项所述的电极帽，其特征在于，包括以下步骤：

按照10/20或10/10系统标准确定周向测量卷尺的电极定位点，将纵向测量卷尺与周向测量卷尺连接点的电极模具设置为第二电极模具，另一端连接点的电极模具设置为第一电极模具，周向测量卷尺其他电极定位点设置第一电极模具；

确定纵向测量卷尺的电极定位点，并在相应的电极定位点设置第一电极模具；

根据确定的周向测量卷尺与纵向测量卷尺的电极定位点的电极模具，将横向测量卷尺通过已设置的第一电极模具与周向测量卷尺以及纵向测量卷尺连接，形成可调的脑电定位测量帽。