[发明专利]新型光纤在审
申请号: | 201811643068.6 | 申请日: | 2018-12-29 |
公开(公告)号: | CN111381312A | 公开(公告)日: | 2020-07-07 |
发明(设计)人: | 曹珊珊;蒋新力;刘志忠;沈一春;王震;苏海燕;徐海涛;薛驰 | 申请(专利权)人: | 中天科技光纤有限公司;江苏中天科技股份有限公司;中天科技精密材料有限公司;江东科技有限公司 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02;G02B6/036 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 孙芬 |
地址: | 226009 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 新型 光纤 | ||
1.一种新型光纤,其特征在于:由内到外依次包括同轴设置的单模纤芯、多模层及外包层,所述单模纤芯位于光纤中心,且具有上阶跃折射率,所述多模层包围于所述单模纤芯外,且具有α轮廓分布的折射率;所述多模层内侧和/或所述多模层外侧设有若干过渡层,所述过渡层与所述单模纤芯或所述外包层同轴设置,且所述过渡层紧贴所述多模层,其折射率与所述多模层接触部分的折射率相等。
2.根据权利要求1所述的新型光纤,其特征在于:当所述过渡层介于所述单模纤芯和所述多模层之间为第一过渡层,与纯二氧化硅相比,所述第一过渡层的相对折射率δ0为0.5%至2.0%之间,所述第一过渡层的单侧宽度W0为1μm至4μm之间;当所述过渡层介于所述多模层和所述外包层之间为第二过渡层,与纯二氧化硅相比,所述第二过渡层的相对折射率δ5为-0.4%至0.15%之间,所述第二过渡层的单侧宽度W5为1μm至7μm之间。
3.根据权利要求2所述的新型光纤,其特征在于:所述单模纤芯为掺锗的二氧化硅玻璃,其半径r1为3μm至5μm之间,相对折射率δ1高于所述第一过渡层的相对折射率δ0,δ1-δ0=0.25%~0.4%。
4.根据权利要求2所述的新型光纤,其特征在于:所述多模层的相对折射率δ2介于所述第一过渡层的相对折射率δ0和所述第二过渡层的相对折射率δ5之间,呈α轮廓分布,所述多模层的半径r2为15μm至35μm之间,α为1.8至2.5之间。
5.根据权利要求2所述的新型光纤,其特征在于:所述新型光纤的半径r3为62μm至63μm之间。
6.根据权利要求3-5中任一项所述的新型光纤,其特征在于:所述单模纤芯与所述多模层之间包括下阶跃折射率的下掺层,所述下掺层的相对折射率δ4低于所述第一过渡层的相对折射率δ0,所述下掺层的单侧宽度W4为0.5μm至5μm之间,且δ4-δ0=-0.05%~-0.35%。
7.根据权利要求6所述的新型光纤,其特征在于:所述下掺层包括同轴设置的多层结构,其中具有较低阶跃折射率的为主下掺层,其他为辅下掺层。
8.根据权利要求6所述的新型光纤,其特征在于:所述下掺层包括主下掺层和一辅下掺层,其中
所述主下掺层的单层宽度为W04为1μm至4μm之间,且δ04-δ0=-0.1%~-0.35%;
所述辅下掺层的单层宽度为W14为0.5μm至4μm之间,且δ14-δ0=-0.05%~-0.2%。
9.根据权利要求3-5中任一项所述的新型光纤,其特征在于:所述多模层与所述外包层之间包括下阶跃折射率的凹陷层,所述凹陷层的相对折射率δ6低于所述第二过渡层的相对折射率δ5,所述凹陷层的单侧宽度W6为2μm至45μm之间,相对折射率δ6为-0.05%至-0.4%之间,所述外包层为纯二氧化硅玻璃。
10.根据权利要求9所述的新型光纤,其特征在于:所述凹陷层包括同轴设置的多层结构,其中具有较低阶跃折射率的为主凹陷层,其他为辅凹陷层。
11.根据权利要求9所述的新型光纤,其特征在于:所述凹陷层包括主凹陷层和一辅凹陷层,其中
所述主凹陷层的单层宽度为W06为2μm至6μm之间,且相对折射率δ06为-0.2%至-0.4%之间;
所述辅凹陷层的单层宽度为W16为2μm至45μm之间,且相对折射率δ16为-0.05%至-0.2%之间。
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