[发明专利]晶体谐振器与控制电路的集成结构及其集成方法在审
申请号: | 201811647865.1 | 申请日: | 2018-12-29 |
公开(公告)号: | CN111383993A | 公开(公告)日: | 2020-07-07 |
发明(设计)人: | 秦晓珊 | 申请(专利权)人: | 中芯集成电路(宁波)有限公司上海分公司 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H01L27/10 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 曹廷廷 |
地址: | 201210 上海市浦东新区中国(上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 晶体 谐振器 控制电路 集成 结构 及其 方法 | ||
本发明提供了一种晶体谐振器与控制电路的集成结构及其集成方法。通过在形成有控制电路的器件晶圆中形成下空腔,并使下空腔的开口还从器件晶圆的背面暴露出,以及将压电谐振片形成在器件晶圆的背面,并使压电谐振片从器件晶圆的背面与器件晶圆中的控制电路电性连接,实现了晶体谐振器和控制电路的集成设置。相比于传统的晶体谐振器,本发明中的晶体谐振器具备更小的尺寸,有利于降低晶体谐振器的功耗,并且本发明中的晶体谐振器更也易于与其他半导体元器件集成,从而能够提高器件的集成度。
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种晶体谐振器与控制电路的集成结构及其集成方法。
背景技术
晶体谐振器是利用压电晶体的逆压电效应制成的谐振器件,是晶体振荡器和滤波器的关键元件,被广泛应用于高频电子信号,实现精确计时、频率标准和滤波等测量和信号处理系统中必不可少的频率控制功能。
随着半导体技术的不断发展,以及集成电路的普及,各种元器件的尺寸也趋于小型化。然而,目前的晶体谐振器不仅难以与其他半导体元器件集成,并且晶体谐振器的尺寸也较大。
例如,目前常见的晶体谐振器包括表面贴装型晶体谐振器,其具体是将基座和上盖通过金属焊接(或者,粘接胶)粘合在一起,以形成密闭腔室,晶体谐振器的压电谐振片位于所述密闭腔室中,并且使压电谐振片的电极通过焊盘或者引线与相应的电路电性连接。基于如上所述的晶体谐振器,其器件尺寸很难进一步缩减,并且所形成的晶体谐振器还需要通过焊接或者粘合的方式与对应的集成电路电性连接,从而进一步限制了所述晶体谐振器的尺寸。
发明内容
本发明的目的在于提供一种晶体谐振器与控制电路的集成方法,以解决现有的晶体谐振器其尺寸较大且不易于集成的问题。
为解决上述技术问题,本发明提供一种晶体谐振器与控制电路的集成方法,包括:
提供器件晶圆,所述器件晶圆中形成有控制电路;
在所述器件晶圆中形成下空腔,所述下空腔具有位于所述器件晶圆背面的开口;
在所述器件晶圆的背面上形成包括上电极、压电晶片和下电极的压电谐振片,所述压电谐振片位于所述下空腔的上方;
在所述器件晶圆上形成连接结构,用于使所述压电谐振片的上电极和下电极通过所述连接结构电性连接至所述控制电路;以及,
在所述器件晶圆的背面上形成封盖层,所述封盖层遮罩所述压电谐振片,并与所述压电谐振片及所述器件晶圆围成所述晶体谐振器的上空腔。
本发明的又一目的在于提供一种晶体谐振器与控制电路的集成结构,包括:
器件晶圆,所述器件晶圆中形成有控制电路,以及在所述器件晶圆中还形成有下空腔,所述下空腔贯穿所述器件晶圆;
压电谐振片,包括下电极、压电晶片和上电极,所述压电谐振片形成在所述器件晶圆的背面上并对应所述下空腔;
连接结构,形成在所述器件晶圆上,用于使所述压电谐振片的上电极和下电极均与所述控制电路电性连接;以及,
封盖层,形成在所述器件晶圆的背面上并遮罩所述压电谐振片,并且所述封盖层还与所述压电谐振片及所述器件晶圆围成上空腔。
在本发明提供的晶体谐振器与控制电路的集成方法中,基于形成有控制电路的器件晶圆,在所述器件晶圆中制备下空腔,并使所述下空腔的开口还从器件晶圆的背面暴露出,从而可进一步将压电谐振片形成在该器件晶圆的背面上并对应所述下空腔,进而再利用半导体平面工艺形成封盖层,以将压电谐振片封盖在上空腔中构成晶体谐振器,如此即实现了控制电路和晶体谐振器的集成设置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯集成电路(宁波)有限公司上海分公司,未经中芯集成电路(宁波)有限公司上海分公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811647865.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造