[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201811654565.6 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN111378384A | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | 王晨;何华锋;李星 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液包括研磨颗粒、哌嗪、单乙醇胺、pH调节剂和水。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述研磨颗粒是二氧化硅。
3.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述研磨颗粒的质量百分比含量为5％-30％。
4.如权利要求3所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述研磨颗粒的质量百分比含量为15％-30％。
5.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述哌嗪的质量百分比含量为1％-10％。
6.如权利要求5所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述哌嗪的质量百分比含量为4％-10％。
7.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述单乙醇胺的质量百分比含量为1％-10％。
8.如权利要求7所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述单乙醇胺的质量百分比含量为4％-10％。
9.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述pH调节剂包括KOH、硝酸、四甲基氢氧化铵中的一种或多种。
10.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液的pH值为10.5-12。
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