[实用新型]一种波长无关高消光比的硅光子调制器有效

专利信息
申请号: 201820001963.7 申请日: 2018-01-02
公开(公告)号: CN207895208U 公开(公告)日: 2018-09-21
发明(设计)人: 方青;陈晓铃;胡娟;陈华;张志群 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: G02F1/21 分类号: G02F1/21;G02B6/12;G02B6/125
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光子 光子波导 调制器 相位臂 消光比 本实用新型 输出端连接 波长无关 光子输出 分束器 波导 光信号传输 波长带宽 连接辅助 有效解决 合束器 输入端 硅层 半导体
【说明书】:

实用新型涉及一种波长无关高消光比的硅光子调制器,属于半导体光信号传输技术领域。该硅光子调制器,硅层分为输入硅光子波导、主MZI结构中的硅光子3dB分束器、辅助MZI单元Ⅰ、辅助MZI单元Ⅱ、主MZI中的相位臂硅光子波导、硅光子输出波导、主MZI中的硅光子合束器和主MZI单元,输入硅光子波导通过主MZI结构中的硅光子3dB分束器分别连接辅助MZI单元Ⅰ、辅助MZI单元Ⅱ输入端,辅助MZI单元Ⅰ、辅助MZI单元Ⅱ输出端连接主MZI中的相位臂硅光子波导,主MZI中的相位臂硅光子波导内部设有主MZI单元,主MZI中的相位臂硅光子波导输出端连接硅光子输出波导。本实用新型通过对辅助MZI进行操作,可以有效解决当前MZI硅光子调制器低消光比和窄波长带宽的问题。

技术领域

本实用新型涉及一种波长无关高消光比的硅光子调制器,属于半导体光信号传输技术领域。

背景技术

硅光子光电集成波导器件是光通信领域的研究热点,其工艺与CMOS器件工艺完全兼容,能够实现与现有集成电路进行集成;同时由于硅材料具有相对高的材料折射率,其器件尺寸可以到达纳米量级,具有极低的成本和批量生产的特性。硅光子高速调制器在光通信网络、数据中心等数据传输方面有着广泛的应用前景。目前硅光子高速调制器主要有4种结构,微环调制器、MOS结构调制器、GeSi吸收调制器和PN结MZI调制器。微环调制器对光波长非常敏感且调制消光比低,MOS结构调制器由于使用多晶硅材料其光学损耗大,GeSi吸收调制器由于Ge带宽变化小只能在1600nm左右的光波段调制且效率低,鉴于以上的原因,此三种硅光子调制器还未实现广泛应用。PN结MZI结构的硅光子调制器是依靠Si的等离子色散效应实现调制功能,通过注入载流子的浓度变化改变波导折射率。目前,PN结MZI结构的硅光子调制器已经实现了超过50Gbps的OOK模式的调制,通过PAM4或更高的PAM16、偏振调制等模式可以实现更高的调制速率,其调制速率完全满足通信容量增长的需求。然而,PN结MZI结构的调制器也面临关键的问题。首先,其调制功能的实现是基于PN结处载流子浓度的变化(改变波导折射率,进而改变波导中光信号相位),但载流子的浓度会造成光信号的强度变化。当波导中载流子浓度高时,波导中光传输损耗大;当波导中载流子浓度低时,波导中光传输损耗小。当PN结处于较高负偏压下的耗尽模式下,PN结处载流子浓度较低,此时光损耗较低;当PN结处于正偏压或较小负偏压下,PN结处载流子浓度大,光损耗大。对于传统单MZI结构的PN-type硅光子调制器,光信号进入MZI调制臂前,光信号需经过3dB分束器,进入两臂相位调制器前两臂中的光强相同。在对单一调制臂进行调制工作时,在载流子注入模式下(即电压正向导通)因载流子浓度增加导致光强减弱,而在载流子耗尽模式下(负电压)因载流子浓度减小导致光强增大。无论电压的施加方向,在单臂操作时,操作臂光强与未操作的光强不相同,必然导致在MZI合束时消光比不高,使调制器的误码率增大。在对MZI两臂同时操作时,为实现π的相位差,两臂的施加电压不相同,通常使用pull-push电信号(即两调制臂施加反向的等值电压),此时两臂的光强必定相差大,最后在合束后调制器的消光比必然不高。同时,硅光子调制器是采用等离子色散效应来实现调制,其折射率改变效率不高,目前MZI硅光子调制器采用不等臂相位长度,其操作波长带宽受到严重影响,不能对宽波长带宽实现调制。传统基于PN-type的MZI硅光子调制器存在消光比较低、波长带宽狭小等问题,严重阻碍了其广泛应用。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820001963.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top